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一种用于化学机械研磨的抛光液
被引:0
专利类型
:
发明
申请号
:
CN200810041771.X
申请日
:
2008-08-15
公开(公告)号
:
CN101649162A
公开(公告)日
:
2010-02-17
发明(设计)人
:
杨春晓
王晨
徐春
申请人
:
申请人地址
:
201203上海市浦东新区张江高科技园区龙东大道3000号5号楼613-618室
IPC主分类号
:
C09G102
IPC分类号
:
C09G118
H01L21304
代理机构
:
上海翰鸿律师事务所
代理人
:
李佳铭
法律状态
:
发明专利申请公布后的视为撤回
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2012-05-02
发明专利申请公布后的视为撤回
发明专利申请公布后的视为撤回 号牌文件类型代码:1603 号牌文件序号:101343328115 IPC(主分类):C09G 1/02 专利申请号:200810041771X 公开日:20100217
2010-02-17
公开
公开
共 50 条
[1]
一种用于化学机械研磨的抛光液
[P].
王晨
论文数:
0
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0
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王晨
;
徐春
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徐春
.
中国专利
:CN102112567A
,2011-06-29
[2]
一种化学机械抛光液
[P].
姚颖
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姚颖
;
宋伟红
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宋伟红
;
孙展龙
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孙展龙
.
中国专利
:CN102464947A
,2012-05-23
[3]
一种用于钨抛光的化学机械抛光液
[P].
郁夏盈
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郁夏盈
;
何华峰
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何华峰
;
王晨
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王晨
;
殷天亮
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殷天亮
;
许旭强
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许旭强
.
中国专利
:CN114686111A
,2022-07-01
[4]
一种用于钨化学机械抛光的抛光液
[P].
王晨
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王晨
;
徐春
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徐春
.
中国专利
:CN102051126A
,2011-05-11
[5]
一种用于钨抛光的化学机械抛光液
[P].
郁夏盈
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郁夏盈
;
史经深
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史经深
;
王晨
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王晨
;
何华锋
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何华锋
.
中国专利
:CN114686107A
,2022-07-01
[6]
一种用于钨抛光的化学机械抛光液
[P].
郁夏盈
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郁夏盈
;
李星
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李星
;
王晨
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王晨
;
史经深
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史经深
.
中国专利
:CN114686109A
,2022-07-01
[7]
一种用于化学机械抛光的抛光液及化学机械抛光方法
[P].
张力飞
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机构:
华海清科股份有限公司
华海清科股份有限公司
张力飞
;
王同庆
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机构:
华海清科股份有限公司
华海清科股份有限公司
王同庆
;
路新春
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机构:
华海清科股份有限公司
华海清科股份有限公司
路新春
.
中国专利
:CN116240550B
,2025-04-15
[8]
一种用于氧化镓的化学机械抛光液及抛光方法
[P].
张松源
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机构:
芯越微电子材料(嘉兴)有限公司
芯越微电子材料(嘉兴)有限公司
张松源
;
朱逸军
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机构:
芯越微电子材料(嘉兴)有限公司
芯越微电子材料(嘉兴)有限公司
朱逸军
;
刘江华
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机构:
芯越微电子材料(嘉兴)有限公司
芯越微电子材料(嘉兴)有限公司
刘江华
.
中国专利
:CN117720858A
,2024-03-19
[9]
一种用于相变材料GeSbTe的化学机械抛光液
[P].
王良咏
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王良咏
;
徐志国
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徐志国
;
潘忠才
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潘忠才
;
李燕军
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0
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李燕军
.
中国专利
:CN108129991A
,2018-06-08
[10]
一种化学机械抛光液
[P].
徐春
论文数:
0
引用数:
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徐春
.
中国专利
:CN102373013A
,2012-03-14
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