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RB‑SiC光学元件抛光工艺加工方法
被引:0
专利类型
:
发明
申请号
:
CN201710397592.9
申请日
:
2017-05-31
公开(公告)号
:
CN107052913A
公开(公告)日
:
2017-08-18
发明(设计)人
:
惠迎雪
刘卫国
张进
周顺
徐均琪
赵杨勇
熊涛
房沫岑
申请人
:
申请人地址
:
710032 陕西省西安市未央区学府中路2号
IPC主分类号
:
B24B100
IPC分类号
:
B24B1300
代理机构
:
西安新思维专利商标事务所有限公司 61114
代理人
:
黄秦芳
法律状态
:
公开
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2017-08-18
公开
公开
2017-09-12
实质审查的生效
实质审查的生效 号牌文件类型代码:1604 号牌文件序号:101747165121 IPC(主分类):B24B 1/00 专利申请号:2017103975929 申请日:20170531
2018-10-30
授权
授权
共 50 条
[1]
光学元件加工抛光装置
[P].
乔励城
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机构:
长春电子科技学院
长春电子科技学院
乔励城
;
阚晓婷
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机构:
长春电子科技学院
长春电子科技学院
阚晓婷
;
刘仲禹
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机构:
长春电子科技学院
长春电子科技学院
刘仲禹
.
中国专利
:CN118322037A
,2024-07-12
[2]
光学元件加工抛光装置
[P].
王志峰
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0
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机构:
南通腾峰光学仪器有限公司
南通腾峰光学仪器有限公司
王志峰
.
中国专利
:CN119369261A
,2025-01-28
[3]
光学元件加工方法
[P].
金会良
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金会良
;
邓文辉
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邓文辉
;
钟波
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钟波
;
徐曦
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徐曦
;
袁志刚
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袁志刚
;
郑楠
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郑楠
;
侯晶
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侯晶
;
陈贤华
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陈贤华
.
中国专利
:CN107081640A
,2017-08-22
[4]
高精度锥台平面结构类光学元件抛光工艺和抛光装置
[P].
于鑫
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于鑫
;
张艳艳
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张艳艳
;
崔莹
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崔莹
;
林娜娜
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林娜娜
;
赵天玉
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赵天玉
;
华伟
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华伟
;
张学斌
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张学斌
.
中国专利
:CN110744390B
,2020-02-04
[5]
抛光光学元件的复配抛光粉及制备方法和抛光工艺
[P].
陈兴建
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陈兴建
;
曾贤高
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曾贤高
.
中国专利
:CN101362925A
,2009-02-11
[6]
抛光光学表面的方法和光学元件
[P].
J.霍夫曼
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J.霍夫曼
;
R.菲克特尔
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R.菲克特尔
;
F-J.斯蒂克尔
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F-J.斯蒂克尔
;
M.马特纳
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M.马特纳
;
M.赛特纳
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M.赛特纳
.
中国专利
:CN108369299B
,2018-08-03
[7]
光学元件的研磨抛光装置及加工方法
[P].
顾建勋
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顾建勋
;
施杨
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施杨
;
余鑫巍
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余鑫巍
;
黄伟
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黄伟
;
徐浩男
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徐浩男
.
中国专利
:CN113953932A
,2022-01-21
[8]
光学元件加工方法
[P].
沼田敦史
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沼田敦史
.
中国专利
:CN101905374A
,2010-12-08
[9]
光学元件加工方法
[P].
李欣和
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李欣和
.
中国专利
:CN101144879A
,2008-03-19
[10]
超薄光学元件的加工方法
[P].
顿爱欢
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顿爱欢
;
彭冰
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彭冰
;
宋力
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宋力
;
吴伦哲
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吴伦哲
;
朱杰
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朱杰
;
杨成龙
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杨成龙
;
徐学科
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徐学科
.
中国专利
:CN111590395B
,2020-08-28
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