高精度锥台平面结构类光学元件抛光工艺和抛光装置

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201911021194.2

申请日：

2019-10-25

公开(公告)号：

CN110744390B

公开(公告)日：

2020-02-04

发明(设计)人：

于鑫张艳艳崔莹林娜娜赵天玉华伟张学斌

申请人：

申请人地址：

300308 天津市东丽区空港经济区中环西路58号

IPC主分类号：

B24B1300

IPC分类号：

B24B13005 B24B4902

代理机构：

中国兵器工业集团公司专利中心 11011

代理人：

王雪芬

法律状态：

公开

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2020-02-04	公开	公开
2021-10-15	授权	授权
2020-02-28	实质审查的生效	实质审查的生效 IPC(主分类):B24B 13/00 申请日:20191025

共 50 条

[1]

光学元件的高精度均匀数控抛光装置及方法 [P].

高海秀 .

中国专利 :CN117840823A ,2024-04-09

[2]

一种光学元件的平面高精度抛光设备 [P].

徐健 .

中国专利 :CN114905369A ,2022-08-16

[3]

一种光学元件的平面高精度抛光设备 [P].

吴德国 .

中国专利 :CN210125945U ,2020-03-06

[4]

光学元件的高精度均匀数控抛光装置 [P].

王春阳 ;

聂凤明 ;

吴庆堂 ;

刘劲松 ;

王大森 .

中国专利 :CN201244762Y ,2009-05-27

[5]

光学元件的高精度均匀数控抛光装置 [P].

王春阳 ;

聂凤明 ;

吴庆堂 ;

刘劲松 ;

王大森 .

中国专利 :CN101386145A ,2009-03-18

[6]

光学元件加工抛光装置 [P].

乔励城 ;

阚晓婷 ;

刘仲禹 .

中国专利 :CN118322037A ,2024-07-12

[7]

光学元件加工抛光装置 [P].

王志峰 .

中国专利 :CN119369261A ,2025-01-28

[8]

高精度抛光装置 [P].

王玉红 ;

李风浪 ;

赵冬杰 ;

宋超 ;

张汉 .

中国专利 :CN215999921U ,2022-03-11

[9]

RB‑SiC光学元件抛光工艺加工方法 [P].

惠迎雪 ;

刘卫国 ;

张进 ;

周顺 ;

徐均琪 ;

赵杨勇 ;

熊涛 ;

房沫岑 .

中国专利 :CN107052913A ,2017-08-18

[10]

高精度光学元件抛光表面质量检测装置 [P].

梁育强 .

中国专利 :CN215572759U ,2022-01-18

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