生长在LiGaO2衬底上的非极性GaN薄膜及其制备方法、应用

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201210048780.8

申请日：

2012-02-28

公开(公告)号：

CN102544276A

公开(公告)日：

2012-07-04

发明(设计)人：

李国强杨慧

申请人：

申请人地址：

510641 广东省广州市天河区五山路381号

IPC主分类号：

H01L3302

IPC分类号：

H01L3332 H01L3300 H01L310304 H01L3118

代理机构：

广州市华学知识产权代理有限公司 44245

代理人：

杨晓松

法律状态：

发明专利申请公布后的驳回

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2015-04-01	发明专利申请公布后的驳回	发明专利申请公布后的驳回号牌文件类型代码:1602 号牌文件序号:101713100546 IPC(主分类):H01L 33/02 专利申请号:2012100487808 申请公布日:20120704
2012-09-05	实质审查的生效	实质审查的生效号牌文件类型代码:1604 号牌文件序号:101322511759 IPC(主分类):H01L 33/02 专利申请号:2012100487808 申请日:20120228
2012-07-04	公开	公开

共 50 条

[1]

生长在LiGaO2衬底上的非极性GaN薄膜 [P].

李国强 ;

杨慧 .

中国专利 :CN202454605U ,2012-09-26

[2]

生长在LiGaO2衬底上的非极性掺杂GaN薄膜 [P].

李国强 ;

杨慧 .

中国专利 :CN203085631U ,2013-07-24

[3]

生长在LiGaO2衬底上的非极性掺杂GaN薄膜及其制备方法 [P].

李国强 ;

杨慧 .

中国专利 :CN103031595B ,2013-04-10

[4]

生长在LiGaO2衬底上的非极性InN薄膜 [P].

李国强 ;

杨慧 .

中国专利 :CN202576646U ,2012-12-05

[5]

生长在LiGaO2衬底上的非极性InN薄膜及其制备方法 [P].

李国强 ;

杨慧 .

中国专利 :CN102560675A ,2012-07-11

[6]

生长在LiGaO2衬底上的非极性多量子阱 [P].

李国强 ;

杨慧 .

中国专利 :CN203085628U ,2013-07-24

[7]

生长在LiGaO2衬底上的非极性多量子阱及其制备方法 [P].

李国强 ;

杨慧 .

中国专利 :CN103035795A ,2013-04-10

[8]

一种生长在LiGaO2衬底上的非极性GaN纳米柱及其制备方法 [P].

李国强 ;

王海燕 ;

林志霆 .

中国专利 :CN106531851B ,2017-03-22

[9]

生长在LiGaO2衬底上的非极性蓝光LED外延片及其制备方法 [P].

李国强 ;

杨慧 .

中国专利 :CN103035789B ,2013-04-10

[10]

生长在LiGaO2衬底上的非极性蓝光LED外延片 [P].

李国强 ;

杨慧 .

中国专利 :CN203085627U ,2013-07-24

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