用于半导体显示衬底的超声波清洗设备

被引：0

专利类型：

实用新型

申请号：

CN202020347159.1

申请日：

2020-03-18

公开(公告)号：

CN211938193U

公开(公告)日：

2020-11-17

发明(设计)人：

陆雄王文彬魏航陶金周文

申请人：

申请人地址：

400000 重庆市九龙坡区西彭镇西彭园区D40标准厂房5号楼

IPC主分类号：

B08B312

IPC分类号：

B08B304

代理机构：

北京中政联科专利代理事务所(普通合伙) 11489

代理人：

韩璐

法律状态：

授权

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2020-11-17	授权	授权

共 50 条

[1]

半导体显示衬底的化学清洗设备 [P].

陆雄 ;

王文彬 ;

魏航 ;

陶金 ;

周文 .

中国专利 :CN211965189U ,2020-11-20

[2]

半导体超高纯产品超声波清洗工艺 [P].

牛彩会 .

中国专利 :CN117900194B ,2025-11-18

[3]

半导体超高纯产品超声波清洗工艺 [P].

牛彩会 .

中国专利 :CN117900194A ,2024-04-19

[4]

超声波清洗设备 [P].

冯增超 .

中国专利 :CN212329116U ,2021-01-12

[5]

超声波清洗设备 [P].

张行君 .

中国专利 :CN205518797U ,2016-08-31

[6]

一种半导体晶圆超声波清洗设备 [P].

郝稳 ;

蒋春华 ;

任国才 .

中国专利 :CN221226174U ,2024-06-25

[7]

超声波清洗仪 [P].

彭国良 ;

罗德淼 .

中国专利 :CN211293500U ,2020-08-18

[8]

一种半导体专用超声波清洗机 [P].

张洪梅 .

中国专利 :CN216262399U ,2022-04-12

[9]

静音超声波清洗槽及静音超声波清洗设备 [P].

杨善 ;

庄皓杰 ;

丁逸君 .

中国专利 :CN210876560U ,2020-06-30

[10]

超声波清洗槽的清洗篮、超声波清洗槽及其超声波清洗机 [P].

吴泉波 ;

蒲川 ;

兰飞 ;

刘红兵 .

中国专利 :CN209918454U ,2020-01-10

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