半导体超高纯产品超声波清洗工艺

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN202410100188.0

申请日：

2024-01-24

公开(公告)号：

CN117900194A

公开(公告)日：

2024-04-19

发明(设计)人：

牛彩会

申请人：

禹银材料科技（上海）有限公司

申请人地址：

201314 上海市浦东新区宣桥镇亦圆路75弄18号601室

IPC主分类号：

B08B3/12

IPC分类号：

B08B3/14 F26B21/00 H01L21/67

代理机构：

济南领瀚专利代理事务所(普通合伙) 37437

代理人：

陈波

法律状态：

公开

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2024-04-19	公开	公开
2025-11-18	授权	授权
2024-05-07	实质审查的生效	实质审查的生效IPC(主分类):B08B 3/12申请日:20240124

共 50 条

[1]

半导体超高纯产品超声波清洗工艺 [P].

牛彩会 .

中国专利 :CN117900194B ,2025-11-18

[2]

一种半导体专用超声波清洗机 [P].

张洪梅 .

中国专利 :CN216262399U ,2022-04-12

[3]

胶合镜片超声波清洗工艺 [P].

顾迎春 ;

吴承伟 ;

彭乔 .

中国专利 :CN114887990A ,2022-08-12

[4]

镜片的超声波清洗工艺 [P].

顾迎春 ;

吴承伟 ;

彭乔 .

中国专利 :CN114749421A ,2022-07-15

[5]

超声波清洗槽的清洗篮、超声波清洗槽及其超声波清洗机 [P].

吴泉波 ;

蒲川 ;

兰飞 ;

刘红兵 .

中国专利 :CN209918454U ,2020-01-10

[6]

超声波清洗槽的上盖板、超声波清洗槽及其超声波清洗机 [P].

吴泉波 ;

蒲川 ;

兰飞 ;

刘红兵 .

中国专利 :CN209491120U ,2019-10-15

[7]

一种超声波清洗设备及超声波清洗工艺 [P].

黄海燕 ;

姚乾 ;

黄勇 .

中国专利 :CN118874944A ,2024-11-01

[8]

用于半导体显示衬底的超声波清洗设备 [P].

陆雄 ;

王文彬 ;

魏航 ;

陶金 ;

周文 .

中国专利 :CN211938193U ,2020-11-17

[9]

抛光后镜片的超声波清洗工艺 [P].

顾迎春 ;

吴承伟 ;

彭乔 .

中国专利 :CN114160496A ,2022-03-11

[10]

镀膜前镜片的超声波清洗工艺 [P].

顾迎春 ;

吴承伟 ;

彭乔 .

中国专利 :CN114160495A ,2022-03-11

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