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一种等离子处理真空腔体结构
被引：0
专利类型：
实用新型
申请号：
CN202121243022.2
申请日：
2021-06-04
公开(公告)号：
CN215731575U
公开(公告)日：
2022-02-01
发明(设计)人：
杨玉飞
申请人：
申请人地址：
214000 江苏省无锡市江阴市城东街道山观澄山路697号
IPC主分类号：
H01J3732
IPC分类号：
代理机构：
南京北辰联和知识产权代理有限公司 32350
代理人：
王俊
法律状态：
授权
国省代码：
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法律状态
| 法律状态公告日 | 法律状态 | 法律状态信息 |
| 2022-02-01 | 授权 | 授权 |