膜形成用组合物

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201410283050.5

申请日：

2014-06-23

公开(公告)号：

CN104252101B

公开(公告)日：

2014-12-31

发明(设计)人：

武内弘明古川由实

申请人：

申请人地址：

日本神奈川县

IPC主分类号：

G03F7004

IPC分类号：

G03F7027

代理机构：

中科专利商标代理有限责任公司 11021

代理人：

蒋亭

法律状态：

授权

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2019-12-20	授权	授权
2014-12-31	公开	公开
2016-06-08	实质审查的生效	实质审查的生效号牌文件类型代码:1604 号牌文件序号:101664484433 IPC(主分类):G03F 7/004 专利申请号:2014102830505 申请日:20140623

共 50 条

[1]

膜形成用组合物 [P].

悴山高大 ;

西村直也 ;

小泽雅昭 .

中国专利 :CN105980496A ,2016-09-28

[2]

喷墨涂布用膜形成用组合物 [P].

西村直也 .

中国专利 :CN107849392B ,2018-03-27

[3]

透明涂膜形成用组合物 [P].

兼子达朗 .

中国专利 :CN111471397B ,2020-07-31

[4]

形成硬盘用被膜的组合物 [P].

加藤拓 ;

首藤圭介 ;

小林淳平 ;

铃木正睦 .

中国专利 :CN103262165B ,2013-08-21

[5]

被膜形成用组合物及其制造方法 [P].

加藤拓 ;

铃木正睦 ;

村上夏美 ;

饭岛大贵 ;

古川智规 ;

小山欣也 .

中国专利 :CN108698851A ,2018-10-23

[6]

低折射率膜形成用组合物 [P].

加藤拓 ;

岛田惠 ;

中岛诚 .

中国专利 :CN104080869B ,2014-10-01

[7]

绝缘膜形成用油墨组合物、由该油墨组合物形成的绝缘膜 [P].

高武正义 ;

饵取秀树 ;

海老根俊裕 ;

五十住宏 ;

笠井正纪 .

中国专利 :CN102057000B ,2011-05-11

[8]

低折射率膜形成用液体组合物 [P].

日向野怜子 ;

山崎和彦 ;

米泽岳洋 .

中国专利 :CN107207907B ,2017-09-26

[9]

膜形成材料、光刻用膜形成用组合物、光学部件形成用材料、抗蚀剂组合物、抗蚀图案形成方法、抗蚀剂用永久膜、辐射敏感组合物、非晶膜的制造方法、光刻用下层膜形成材料、光刻用下层膜形成用组合物、光刻用下层膜的制造方法及电路图案形成方法 [P].

三树泰 ;

越后雅敏 .

中国专利 :CN110856451A ,2020-02-28

[10]

成膜用组合物 [P].

加藤拓 ;

村上奈子美 ;

小山欣也 ;

西村直也 ;

小泽雅昭 .

中国专利 :CN103154138B ,2013-06-12

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