喷墨涂布用膜形成用组合物

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201680043827.8

申请日：

2016-06-01

公开(公告)号：

CN107849392B

公开(公告)日：

2018-03-27

发明(设计)人：

西村直也

申请人：

申请人地址：

日本东京都

IPC主分类号：

C09D17904

IPC分类号：

B41J201 B41M500 C08G7302 C09D765 C09D763 G02B500 H01L21312

代理机构：

中国贸促会专利商标事务所有限公司 11038

代理人：

何杨

法律状态：

实质审查的生效

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2018-06-22	实质审查的生效	实质审查的生效 IPC(主分类):C09D 179/04 申请日:20160601
2018-03-27	公开	公开
2021-07-13	授权	授权

共 50 条

[1]

膜形成用组合物 [P].

悴山高大 ;

西村直也 ;

小泽雅昭 .

中国专利 :CN105980496A ,2016-09-28

[2]

膜形成用组合物 [P].

西村直也 ;

悴山高大 ;

鹿内康史 ;

村上奈子美 ;

安部诚志 ;

三井滋 ;

小泽雅昭 .

中国专利 :CN104272145A ,2015-01-07

[3]

膜形成用组合物及单层涂布型水平取向膜 [P].

丹尼尔·安东尼奥·樱叶汀 .

中国专利 :CN105518042A ,2016-04-20

[4]

成膜用组合物 [P].

加藤拓 ;

村上奈子美 ;

小山欣也 ;

西村直也 ;

小泽雅昭 .

中国专利 :CN103154138B ,2013-06-12

[5]

膜形成用组合物 [P].

柴山亘 ;

后藤裕一 ;

窪寺俊 ;

武田谕 ;

石桥谦 ;

中岛诚 .

中国专利 :CN113227281A ,2021-08-06

[6]

膜形成用组合物 [P].

柴山亘 ;

仓本悠太郎 ;

武田谕 ;

志垣修平 ;

石桥谦 ;

中岛诚 .

中国专利 :CN113227214A ,2021-08-06

[7]

膜形成用组合物 [P].

武内弘明 ;

古川由实 .

中国专利 :CN104252101B ,2014-12-31

[8]

高硬度覆膜形成用涂布剂组合物 [P].

阿部晋士 .

日本专利 :CN113549398B ,2024-02-09

[9]

高硬度覆膜形成用涂布剂组合物 [P].

阿部晋士 .

中国专利 :CN113549398A ,2021-10-26

[10]

图案形成用组合物 [P].

中家直树 ;

高濑顕司 ;

菅原祐大 .

中国专利 :CN114787239A ,2022-07-22

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