一种耐刻蚀正性光刻胶

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN202011537034.6

申请日：

2020-12-23

公开(公告)号：

CN112631075A

公开(公告)日：

2021-04-09

发明(设计)人：

徐娟周建王猛

申请人：

申请人地址：

236400 安徽省阜阳市临泉县邢塘街道办事处霞光大道16号柏联创新科技产业园五栋201室

IPC主分类号：

G03F7039

IPC分类号：

代理机构：

合肥金律专利代理事务所(普通合伙) 34184

代理人：

马捷

法律状态：

公开

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2021-04-09	公开	公开

共 50 条

[1]

一种耐刻蚀的正性光刻胶 [P].

陈韦帆 ;

郑祥飞 ;

俞灏洋 ;

马骥 .

中国专利 :CN114326304B ,2024-08-20

[2]

一种耐刻蚀的正性光刻胶 [P].

陈韦帆 ;

郑祥飞 ;

俞灏洋 ;

马骥 .

中国专利 :CN114326304A ,2022-04-12

[3]

一种耐刻蚀易粘附正性光刻胶 [P].

徐娟 ;

王猛 ;

周建 .

中国专利 :CN112631077A ,2021-04-09

[4]

一种耐刻蚀光刻胶组合物 [P].

徐娟 ;

周建 ;

王猛 .

中国专利 :CN112631071A ,2021-04-09

[5]

正性光刻胶 [P].

徐亮 ;

季昌彬 .

中国专利 :CN107728427A ,2018-02-23

[6]

正性光刻胶 [P].

唐谦 ;

M·劳斯 .

中国专利 :CN1075638C ,1996-04-24

[7]

一种紫外正性光刻胶 [P].

宋振 ;

杨志锋 ;

黄顺礼 ;

陆煜东 ;

郑安丽 ;

许振良 ;

林柳武 .

中国专利 :CN109062008B ,2018-12-21

[8]

一种正性光刻胶 [P].

张宁 ;

李杨 ;

卢克军 ;

朴大然 ;

张腾 ;

刘洪雷 ;

胡凡华 ;

张博文 .

中国专利 :CN120428518A ,2025-08-05

[9]

一种正性光刻胶组合物 [P].

吴世泰 ;

韩冬 .

中国专利 :CN115494696A ,2022-12-20

[10]

一种厚胶正性光刻胶、光刻胶层及其制备方法 [P].

相可创 ;

岳爽 ;

吴京玮 .

中国专利 :CN117784524A ,2024-03-29

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