偏光膜和偏光膜的制造方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201410638174.0

申请日：

2014-11-06

公开(公告)号：

CN104635289A

公开(公告)日：

2015-05-20

发明(设计)人：

后藤周作山本佳史池岛健太郎

申请人：

申请人地址：

日本大阪府

IPC主分类号：

G02B530

IPC分类号：

B29C5502

代理机构：

北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277

代理人：

刘新宇;李茂家

法律状态：

公开

国省代码：

引用

下载

收藏

法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2015-05-20	公开	公开
2015-06-17	实质审查的生效	实质审查的生效号牌文件类型代码:1604 号牌文件序号:101613561099 IPC(主分类):G02B 5/30 专利申请号:2014106381740 申请日:20141106
2018-04-03	授权	授权

共 50 条

[1]

偏光膜和偏光膜的制造方法 [P].

后藤周作 ;

山本佳史 ;

池岛健太郎 .

中国专利 :CN104635290A ,2015-05-20

[2]

偏光膜和偏光膜的制造方法 [P].

后藤周作 ;

尾込大介 ;

中野勇树 ;

矢仙姆尼里汀 ;

金子修 .

中国专利 :CN104737046A ,2015-06-24

[3]

偏光膜、偏光板和该偏光膜的制造方法 [P].

岛津亮 ;

后藤周作 ;

森崎真由美 .

中国专利 :CN114026474A ,2022-02-08

[4]

偏光膜、偏光板和该偏光膜的制造方法 [P].

岛津亮 ;

后藤周作 ;

森崎真由美 .

日本专利 :CN118769524A ,2024-10-15

[5]

偏光膜、偏光板和该偏光膜的制造方法 [P].

岛津亮 ;

后藤周作 ;

森崎真由美 .

中国专利 :CN114026471A ,2022-02-08

[6]

偏光膜、偏光板及该偏光膜的制造方法 [P].

高永幸佑 ;

后藤周作 ;

滨本大介 .

日本专利 :CN113994243B ,2024-08-27

[7]

偏光膜、偏光板以及该偏光膜的制造方法 [P].

森崎真由美 ;

后藤周作 ;

岛津亮 .

日本专利 :CN118915221A ,2024-11-08

[8]

偏光膜、偏光板、及该偏光膜的制造方法 [P].

黑原薫 ;

后藤周作 ;

南川善则 ;

森崎真由美 .

日本专利 :CN113508316B ,2024-09-17

[9]

偏光膜、偏光板、及该偏光膜的制造方法 [P].

高永幸佑 ;

滨本大介 ;

上条卓史 .

日本专利 :CN119861444A ,2025-04-22

[10]

偏光膜、偏光板、及该偏光膜的制造方法 [P].

黑原薫 ;

后藤周作 ;

南川善则 ;

森崎真由美 .

中国专利 :CN113508316A ,2021-10-15

← 1 2 3 4 5 →