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热蒸发坩埚和热蒸发装置
被引：0
专利类型：
发明
申请号：
CN202011427178.6
申请日：
2020-12-09
公开(公告)号：
CN112430799A
公开(公告)日：
2021-03-02
发明(设计)人：
倪健
孙志鹏
薛聪
申请人：
申请人地址：
518051 广东省深圳市南山区招商街道文竹园社区荔园路51源华综合楼
IPC主分类号：
C23C1426
IPC分类号：
代理机构：
广州华进联合专利商标代理有限公司 44224
代理人：
李辉
法律状态：
著录事项变更
国省代码：
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法律状态
| 法律状态公告日 | 法律状态 | 法律状态信息 |
| 2022-08-23 | 著录事项变更 | 著录事项变更 IPC(主分类):C23C 14/26 变更事项:申请人 变更前:埃特曼（福建）半导体技术有限公司 变更后:埃特曼半导体技术有限公司 变更事项:地址 变更前:361021 福建省厦门市集美区后溪镇金岭北路159-7号101室（法律文书送达地址） 变更后:361021 福建省厦门市集美区后溪镇金岭北路159-7号101室（法律文书送达地址） |
| 2021-03-02 | 公开 | 公开 |
| 2021-03-19 | 实质审查的生效 | 实质审查的生效 IPC(主分类):C23C 14/26 申请日:20201209 |
| 2022-08-23 | 著录事项变更 | 著录事项变更 IPC(主分类):C23C 14/26 变更事项:申请人 变更前:埃特曼（深圳）半导体技术有限公司 变更后:埃特曼（福建）半导体技术有限公司 变更事项:地址 变更前:518051 广东省深圳市南山区招商街道文竹园社区荔园路51源华综合楼 变更后:361021 福建省厦门市集美区后溪镇金岭北路159-7号101室（法律文书送达地址） |