一种选择性吸附镓离子的石墨烯基表面离子印迹材料及其制备方法和应用

被引：0

申请号：

CN202211004231.0

申请日：

2022-08-22

公开(公告)号：

CN115382515A

公开(公告)日：

2022-11-25

发明(设计)人：

刘伟峰张曼曼梁畅刘旭光

申请人：

申请人地址：

030024 山西省太原市迎泽西大街79号

IPC主分类号：

B01J2026

IPC分类号：

B01J2030

代理机构：

北京合创致信专利代理有限公司 16127

代理人：

刘素霞

法律状态：

实质审查的生效

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2022-12-13	实质审查的生效	实质审查的生效 IPC(主分类):B01J 20/26 申请日:20220822
2022-11-25	公开	公开

共 50 条

[1]

一种选择性吸附镓离子的石墨烯基表面离子印迹材料及其制备方法和应用 [P].

刘伟峰 ;

张曼曼 ;

梁畅 ;

刘旭光 .

中国专利 :CN115382515B ,2024-05-28

[2]

一种光敏锂离子选择性吸附材料及其制备方法 [P].

区然雯 ;

关乾 ;

吴姁 .

中国专利 :CN117563561B ,2025-10-28

[3]

一种光敏锂离子选择性吸附材料及其制备方法 [P].

区然雯 ;

关乾 ;

吴姁 .

中国专利 :CN117563561A ,2024-02-20

[4]

一种双亲分子修饰石墨烯基离子选择性膜及其制备方法和应用 [P].

薛国斌 ;

王德娟 ;

刘宏 ;

唐杰斌 ;

张亚芳 ;

智慧 ;

刘永旭 .

中国专利 :CN117427500A ,2024-01-23

[5]

一种选择性吸附金离子的多孔碳材料及其制备方法和应用 [P].

郑华均 ;

王立敏 .

中国专利 :CN102895952A ,2013-01-30

[6]

选择性吸附As+5离子吸附材料及其制备方法 [P].

刘预 ;

孙承兴 ;

徐慧 ;

仵彦卿 .

中国专利 :CN102172514A ,2011-09-07

[7]

一种基于多糖的温敏性离子印迹吸附材料及其制备方法和应用 [P].

尹学琼 ;

李治明 ;

田华 ;

唐李雯 ;

朱莉 .

中国专利 :CN109967050A ,2019-07-05

[8]

一种吸附镓离子的MXene基复合气凝胶材料及其制备方法和应用 [P].

刘伟峰 ;

刘兵兵 ;

梁畅 ;

符冬菊 ;

刘旭光 .

中国专利 :CN118059824A ,2024-05-24

[9]

一种Cs离子选择性吸附材料及其制备方法 [P].

刘海弟 ;

岳仁亮 ;

陈运法 ;

高永林 .

中国专利 :CN120346791B ,2025-10-03

[10]

一种选择性吸附镉离子的介孔印迹材料的制备方法 [P].

田大勇 ;

彭云峰 ;

杨爽 ;

郑勇 ;

吕会超 ;

彭聪虎 ;

贾太轩 ;

侯绍刚 .

中国专利 :CN105396555A ,2016-03-16

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