等离子体处理装置以及等离子体处理方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201811538842.7

申请日：

2018-12-14

公开(公告)号：

CN109950119B

公开(公告)日：

2019-06-28

发明(设计)人：

荒卷徹横川贤悦

申请人：

申请人地址：

日本东京都

IPC主分类号：

H01J3732

IPC分类号：

H01L2167 H01L213065

代理机构：

中科专利商标代理有限责任公司 11021

代理人：

李国华

法律状态：

授权

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2021-07-23	授权	授权
2019-07-23	实质审查的生效	实质审查的生效 IPC(主分类):H01J 37/32 申请日:20181214
2019-06-28	公开	公开

共 50 条

[1]

等离子体处理装置以及等离子体处理方法 [P].

铃木达也 ;

樫部诚 .

中国专利 :CN115004863A ,2022-09-02

[2]

等离子体处理装置以及等离子体处理方法 [P].

园田靖 .

中国专利 :CN112424911A ,2021-02-26

[3]

等离子体处理装置以及等离子体处理方法 [P].

铃木达也 ;

樫部诚 .

日本专利 :CN115004863B ,2025-10-14

[4]

等离子体处理方法以及等离子体处理装置 [P].

武藤悟 ;

小野哲郎 ;

大越康雄 ;

永德宏文 .

中国专利 :CN104103486B ,2014-10-15

[5]

等离子体处理装置以及等离子体处理方法 [P].

森本未知数 ;

大越康雄 ;

大平原勇造 ;

小野哲郎 .

中国专利 :CN103632914A ,2014-03-12

[6]

等离子体处理装置以及等离子体处理方法 [P].

安藤阳二 ;

小野哲郎 ;

臼井建人 .

中国专利 :CN103811249B ,2014-05-21

[7]

等离子体处理装置以及等离子体处理方法 [P].

山田一也 ;

山本浩一 ;

安井尚辉 ;

池田纪彦 ;

森功 .

中国专利 :CN109524288A ,2019-03-26

[8]

等离子体处理装置及等离子体处理方法 [P].

岩濑拓 ;

荒濑高男 ;

寺仓聪志 ;

渡边勇人 ;

森政士 .

中国专利 :CN111373511A ,2020-07-03

[9]

等离子体处理装置及等离子体处理方法 [P].

森本未知数 ;

安井尚辉 ;

大越康雄 .

中国专利 :CN104241071A ,2014-12-24

[10]

等离子体处理方法以及等离子体处理装置 [P].

置田尚吾 ;

针贝笃史 ;

伊藤彰宏 .

中国专利 :CN107204274B ,2017-09-26

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