等离子体处理装置以及等离子体处理方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201310045137.4

申请日：

2013-02-05

公开(公告)号：

CN103811249B

公开(公告)日：

2014-05-21

发明(设计)人：

安藤阳二小野哲郎臼井建人

申请人：

申请人地址：

日本东京都

IPC主分类号：

H01J37244

IPC分类号：

H01J3732

代理机构：

中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038

代理人：

许海兰

法律状态：

实质审查的生效

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2014-06-25	实质审查的生效	实质审查的生效号牌文件类型代码:1604 号牌文件序号:101583087698 IPC(主分类):H01J 37/244 专利申请号:2013100451374 申请日:20130205
2014-05-21	公开	公开

共 50 条

[1]

等离子体处理方法以及等离子体处理装置 [P].

武藤悟 ;

小野哲郎 ;

大越康雄 ;

永德宏文 .

中国专利 :CN104103486B ,2014-10-15

[2]

等离子体处理装置以及等离子体处理方法 [P].

森本未知数 ;

大越康雄 ;

大平原勇造 ;

小野哲郎 .

中国专利 :CN103632914A ,2014-03-12

[3]

等离子体处理装置以及等离子体处理方法 [P].

饭岛悦夫 ;

土屋浩 .

中国专利 :CN1228820C ,2004-03-10

[4]

等离子体处理装置以及等离子体处理方法 [P].

铃木达也 ;

樫部诚 .

中国专利 :CN115004863A ,2022-09-02

[5]

等离子体处理装置以及等离子体处理方法 [P].

园田靖 .

中国专利 :CN112424911A ,2021-02-26

[6]

等离子体处理装置以及等离子体处理方法 [P].

铃木达也 ;

樫部诚 .

日本专利 :CN115004863B ,2025-10-14

[7]

等离子体处理装置以及等离子体处理方法 [P].

荒卷徹 ;

横川贤悦 .

中国专利 :CN109950119B ,2019-06-28

[8]

等离子体处理装置以及等离子体处理方法 [P].

奥村智洋 .

中国专利 :CN103151234A ,2013-06-12

[9]

等离子体处理装置和等离子体处理方法 [P].

东条利洋 ;

藤井祐希 .

中国专利 :CN107275179A ,2017-10-20

[10]

等离子体处理装置以及等离子体处理方法 [P].

江藤宗一郎 .

中国专利 :CN113646874A ,2021-11-12

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