低折射率纳米材料减反射膜

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN200810200774.3

申请日：

2008-10-06

公开(公告)号：

CN101431110A

公开(公告)日：

2009-05-13

发明(设计)人：

刘永生杨文华

申请人：

申请人地址：

200090上海市杨浦区平凉路2103号

IPC主分类号：

H01L310232

IPC分类号：

H01L31052

代理机构：

上海申汇专利代理有限公司

代理人：

吴宝根

法律状态：

公开

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2009-05-13	公开	公开
2009-08-26	实质审查的生效	实质审查的生效
2011-09-14	发明专利申请公布后的驳回	发明专利申请公布后的驳回号牌文件类型代码:1602 号牌文件序号:101183795220 IPC(主分类):H01L 31/0232 专利申请号:2008102007743 公开日:20090513

共 50 条

[1]

低折射率材料和减反射膜 [P].

吉田达朗 ;

木村育弘 ;

渡边谦二 ;

池田智之 ;

伊藤哲也 ;

后藤义隆 .

中国专利 :CN1410484A ,2003-04-16

[2]

双层低折射率减反射膜的制备方法 [P].

刘振宇 .

中国专利 :CN104711551A ,2015-06-17

[3]

低折射率层和包含该低折射率层的减反射膜 [P].

金芙敬 ;

张影来 ;

张锡勋 ;

边真锡 .

中国专利 :CN107438778A ,2017-12-05

[4]

低折射率光固化涂液、减反射膜及其制备方法 [P].

金闯 ;

周金芝 ;

耿龙飞 ;

邬义杨 ;

金文祥 ;

葛建峰 .

中国专利 :CN117586657A ,2024-02-23

[5]

低折射率光固化涂液、减反射膜及其制备方法 [P].

金闯 ;

周金芝 ;

耿龙飞 ;

邬义杨 ;

金文祥 ;

葛建峰 .

中国专利 :CN117586657B ,2025-11-18

[6]

用于形成低折射率膜的涂料、低折射率膜的制造方法以及低折射率膜 [P].

赵振海 ;

魏斯毅 ;

尾崎雅树 .

中国专利 :CN102634277A ,2012-08-15

[7]

低折射率层形成用涂液、低折射率层及防反射膜 [P].

铃木健弘 .

日本专利 :CN117916634A ,2024-04-19

[8]

具有低折射率层的抗反射膜 [P].

古冈健介 ;

森本佳宽 .

中国专利 :CN1659452A ,2005-08-24

[9]

可光固化的涂层组合物、低折射率层和减反射膜 [P].

金芙敬 ;

张锡勋 ;

边真锡 ;

张影来 ;

金宪 .

中国专利 :CN107922756A ,2018-04-17

[10]

可光固化的涂层组合物、低折射率层和减反射膜 [P].

金芙敬 ;

金惠珉 ;

沈载勋 ;

郑顺和 .

中国专利 :CN107406608A ,2017-11-28

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