双层低折射率减反射膜的制备方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201310700039.X

申请日：

2013-12-16

公开(公告)号：

CN104711551A

公开(公告)日：

2015-06-17

发明(设计)人：

刘振宇

申请人：

申请人地址：

300180 天津市河东区二号桥电传路7号院内B座286房间

IPC主分类号：

C23C2008

IPC分类号：

代理机构：

天津盛理知识产权代理有限公司 12209

代理人：

田阳

法律状态：

公开

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2015-06-17	公开	公开
2017-08-04	发明专利申请公布后的视为撤回	发明专利申请公布后的视为撤回号牌文件类型代码:1602 号牌文件序号:101756551418 IPC(主分类):C23C 20/08 专利申请号:201310700039X 申请公布日:20150617

共 50 条

[1]

低折射率纳米材料减反射膜 [P].

刘永生 ;

杨文华 .

中国专利 :CN101431110A ,2009-05-13

[2]

低折射率材料和减反射膜 [P].

吉田达朗 ;

木村育弘 ;

渡边谦二 ;

池田智之 ;

伊藤哲也 ;

后藤义隆 .

中国专利 :CN1410484A ,2003-04-16

[3]

低折射率层和包含该低折射率层的减反射膜 [P].

金芙敬 ;

张影来 ;

张锡勋 ;

边真锡 .

中国专利 :CN107438778A ,2017-12-05

[4]

低折射率光固化涂液、减反射膜及其制备方法 [P].

金闯 ;

周金芝 ;

耿龙飞 ;

邬义杨 ;

金文祥 ;

葛建峰 .

中国专利 :CN117586657A ,2024-02-23

[5]

低折射率光固化涂液、减反射膜及其制备方法 [P].

金闯 ;

周金芝 ;

耿龙飞 ;

邬义杨 ;

金文祥 ;

葛建峰 .

中国专利 :CN117586657B ,2025-11-18

[6]

一种渐变折射率减反射膜的制备方法 [P].

陈俊武 ;

王彪 ;

杨毅 ;

许高杰 ;

崔平 .

中国专利 :CN102517620B ,2012-06-27

[7]

用于形成低折射率膜的涂料、低折射率膜的制造方法以及低折射率膜 [P].

赵振海 ;

魏斯毅 ;

尾崎雅树 .

中国专利 :CN102634277A ,2012-08-15

[8]

具有低折射率层的抗反射膜 [P].

古冈健介 ;

森本佳宽 .

中国专利 :CN1659452A ,2005-08-24

[9]

一种调整减反射膜厚度和折射率的方法 [P].

赵强 .

中国专利 :CN103022260B ,2013-04-03

[10]

可光固化的涂层组合物、低折射率层和减反射膜 [P].

金芙敬 ;

张锡勋 ;

边真锡 ;

张影来 ;

金宪 .

中国专利 :CN107922756A ,2018-04-17

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