原子层沉积法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN200880118748.4

申请日：

2008-10-30

公开(公告)号：

CN101883877A

公开(公告)日：

2010-11-10

发明(设计)人：

阿里莱尼·达默龙

申请人：

申请人地址：

美国得克萨斯州

IPC主分类号：

C23C1600

IPC分类号：

代理机构：

北京市柳沈律师事务所 11105

代理人：

宋莉

法律状态：

公开

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2010-11-10	公开	公开
2010-12-22	实质审查的生效	实质审查的生效号牌文件类型代码:1604 号牌文件序号:101026282625 IPC(主分类):C23C 16/00 专利申请号:2008801187484 申请日:20081030
2012-06-20	发明专利申请公布后的视为撤回	发明专利申请公布后的视为撤回号牌文件类型代码:1603 号牌文件序号:101382531664 IPC(主分类):C23C 16/00 专利申请号:2008801187484 公开日:20101110

共 50 条

[1]

热法原子层沉积装置 [P].

郑锦 ;

李超 .

中国专利 :CN308800251S ,2024-08-23

[2]

原子层沉积方法 [P].

D·H·李维 .

中国专利 :CN101415860A ,2009-04-22

[3]

利用原子层沉积法形成薄膜的方法 [P].

金荣宽 ;

朴泳旭 ;

林载顺 ;

崔城济 ;

李相忍 .

中国专利 :CN1234909C ,2001-04-25

[4]

利用原子层沉积法的成膜方法 [P].

山内昭佳 ;

松永隆行 ;

岸川洋介 ;

堀口和孝 ;

中村新吾 ;

匈坂重仁 ;

霜垣幸浩 ;

百濑健 ;

出浦桃子 ;

佐藤登 ;

山口润 .

日本专利 :CN120731291A ,2025-09-30

[5]

原子层沉积 [P].

G.阿马拉藤加 ;

Y.乔伊 ;

S.希瓦雷迪 ;

N.布朗 ;

C.科利斯 .

中国专利 :CN104379807A ,2015-02-25

[6]

原子层沉积装置及原子层沉积方法 [P].

刘良文 ;

闫晓晖 ;

拉海忠 .

中国专利 :CN119800330A ,2025-04-11

[7]

原子层沉积方法及原子层沉积装置 [P].

叶长福 ;

魏鼎 ;

吕佐文 .

中国专利 :CN117265508B ,2025-09-26

[8]

原子层沉积方法和原子层沉积设备 [P].

古尔特基·S·桑赫 ;

特鲁格·特里·多恩 .

中国专利 :CN100346448C ,2005-10-26

[9]

原子层沉积方法以及原子层沉积系统 [P].

邵大立 ;

史皓然 ;

齐彪 ;

李宇晗 ;

陆淋康 ;

刘子婵 ;

马敬忠 .

中国专利 :CN117265510B ,2024-02-27

[10]

原子层沉积装置及原子层沉积方法 [P].

李名言 ;

吴孝哲 ;

蔡文立 .

中国专利 :CN101333648A ,2008-12-31

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