一种真空溅射镀膜装置

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201710893676.1

申请日：

2017-09-28

公开(公告)号：

CN107523792A

公开(公告)日：

2017-12-29

发明(设计)人：

王振东何万能

申请人：

申请人地址：

215000 江苏省苏州市工业园区金鸡湖大道99号苏州纳米城西北区01栋101、102室

IPC主分类号：

C23C1420

IPC分类号：

C23C1456 C23C1458

代理机构：

代理人：

法律状态：

实质审查的生效

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2018-01-26	实质审查的生效	实质审查的生效 IPC(主分类):C23C 14/20 申请日:20170928
2017-12-29	公开	公开
2019-07-16	发明专利申请公布后的视为撤回	发明专利申请公布后的视为撤回 IPC(主分类):C23C 14/20 申请公布日:20171229

共 50 条

[1]

一种真空溅射镀膜装置 [P].

王振东 ;

何万能 .

中国专利 :CN207483836U ,2018-06-12

[2]

一种真空溅射镀膜装置 [P].

胡兴微 ;

蒋玉东 .

中国专利 :CN212152430U ,2020-12-15

[3]

一种真空溅射镀膜装置 [P].

胡兴微 ;

蒋玉东 .

中国专利 :CN212175030U ,2020-12-18

[4]

真空溅射镀膜装置 [P].

余华骏 ;

江维 ;

饶志刚 .

中国专利 :CN204198843U ,2015-03-11

[5]

真空溅射镀膜装置 [P].

姜友松 ;

葛鹤龄 ;

程序雳 .

中国专利 :CN119061363A ,2024-12-03

[6]

真空溅射镀膜装置 [P].

祝海生 ;

力家东 ;

黄乐 ;

孙桂红 ;

潘继峰 .

中国专利 :CN216786250U ,2022-06-21

[7]

真空溅射镀膜装置 [P].

陈立 ;

薛闯 ;

李俊杰 ;

李新栓 ;

寇立 ;

黄乐 ;

孙桂红 ;

潘继峰 .

中国专利 :CN114318267A ,2022-04-12

[8]

真空溅射镀膜设备 [P].

黄国兴 .

中国专利 :CN201704398U ,2011-01-12

[9]

一种真空溅射镀膜装置 [P].

闫都伦 ;

王克斌 ;

吴细标 ;

唐贵民 .

中国专利 :CN204803396U ,2015-11-25

[10]

真空溅射镀膜设备 [P].

黄国兴 .

中国专利 :CN101928924A ,2010-12-29

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