一种CMP抛光设备用抛光垫

被引：0

专利类型：

实用新型

申请号：

CN201821730184.7

申请日：

2018-10-24

公开(公告)号：

CN208895849U

公开(公告)日：

2019-05-24

发明(设计)人：

方明喜肖学才常强

申请人：

申请人地址：

215300 江苏省苏州市昆山开发区前进路南侧

IPC主分类号：

B24B3720

IPC分类号：

B24B3724

代理机构：

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法律状态：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2019-05-24	授权	授权

共 50 条

[1]

一种CMP抛光设备用抛光垫 [P].

贺越腾 .

中国专利 :CN214817689U ,2021-11-23

[2]

CMP抛光垫 [P].

钱百年 ;

D·M·奥尔登 ;

M·西莫奇 ;

邱南荣 ;

曾圣桓 .

中国专利 :CN115555987A ,2023-01-03

[3]

抛光垫（cmp） [P].

李加海 ;

杨惠明 ;

李元祥 .

中国专利 :CN308889171S ,2024-10-18

[4]

一种CMP抛光设备用定位夹具 [P].

方明喜 ;

肖学才 ;

常强 .

中国专利 :CN208929998U ,2019-06-04

[5]

一种CMP抛光设备用抛光载物台 [P].

方明喜 ;

肖学才 ;

常强 .

中国专利 :CN208895833U ,2019-05-24

[6]

一种CMP抛光垫生产用表面处理设备 [P].

颜杰钦 ;

颜子明 ;

李泽辉 .

中国专利 :CN120901830A ,2025-11-07

[7]

一种CMP抛光垫封边工艺 [P].

但文涛 ;

姜千 .

中国专利 :CN108972381A ,2018-12-11

[8]

一种CMP抛光垫及其制备方法 [P].

傅一非 ;

沈杰 ;

苏明 ;

王志华 ;

陈德伟 .

中国专利 :CN116766077B ,2025-11-07

[9]

双层CMP抛光子垫 [P].

侯冠华 ;

A·旺克 ;

王德纯 ;

N·A·瓦斯克斯 ;

J·R·麦考密克 .

美国专利 :CN118123703A ,2024-06-04

[10]

一种CMP复合沟槽抛光垫 [P].

但文涛 ;

张莉娟 .

中国专利 :CN108994723A ,2018-12-14

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