沉积敷形氮化硼膜

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201180016315.X

申请日：

2011-03-23

公开(公告)号：

CN103119196B

公开(公告)日：

2013-05-22

发明(设计)人：

乔治·安德鲁·安东内利曼迪亚姆·西里拉姆维什瓦纳坦·兰加拉詹普拉莫德·苏布拉莫尼姆

申请人：

申请人地址：

美国加利福尼亚州

IPC主分类号：

C23C1630

IPC分类号：

C23C1650 C23C16455 H01L21205 C23C1644

代理机构：

上海胜康律师事务所 31263

代理人：

李献忠

法律状态：

实质审查的生效

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2013-06-19	实质审查的生效	实质审查的生效号牌文件类型代码:1604 号牌文件序号:101475926939 IPC(主分类):C23C 16/30 专利申请号:201180016315X 申请日:20110323
2013-05-22	公开	公开
2015-04-08	授权	授权

共 50 条

[1]

使用肼基前体沉积氮化硼膜 [P].

C.德泽拉 ;

T.布兰夸特 .

中国专利 :CN115704091A ,2023-02-17

[2]

氮化硼和氮化硼导出材料的沉积方法 [P].

J-u·许 ;

M·巴尔塞努 ;

夏立群 ;

V·T·恩古耶 ;

D·R·威蒂 ;

H·M'塞德 .

中国专利 :CN101690420B ,2010-03-31

[3]

六方氮化硼沉积 [P].

沈泽清 ;

S·S·罗伊 ;

A·B·玛里克 .

美国专利 :CN118077030A ,2024-05-24

[4]

用于氮化硼膜的ALD沉积的含硼前体 [P].

R·N·维蒂斯 ;

金武性 ;

H·钱德拉 ;

雷新建 .

美国专利 :CN119213168A ,2024-12-27

[5]

用于沉积氮化硼的方法和系统 [P].

M·S·德阿布鲁内托 ;

J·全 ;

I·阿卜德拉奥伊 ;

T·布兰夸特 ;

R·H·J·沃乌尔特 .

:CN118186364A ,2024-06-14

[6]

氮化硼膜的成膜方法和成膜装置 [P].

后藤一希 ;

加藤良裕 ;

酒井宗一朗 .

日本专利 :CN120119225A ,2025-06-10

[7]

氮化硼膜的成膜方法和成膜装置 [P].

酒井宗一朗 ;

后藤一希 ;

加藤良裕 .

日本专利 :CN120464983A ,2025-08-12

[8]

L·N·鲁萨诺瓦 ;

A·G·罗马欣 ;

L·I·戈尔恰科瓦 ;

G·I·库里科瓦 ;

M·K·阿列克斯夫 .

中国专利 :CN1162297A ,1997-10-15

[9]

氮化硼与硼-氮化物衍生材料的沉积方法 [P].

米哈拉·鲍尔西努 ;

克里斯多佛·丹尼斯·本彻 ;

咏梅·陈 ;

伊萨贝丽塔·罗夫洛克斯 ;

夏立群 ;

德里克·R·维迪 ;

立岩·苗 ;

维克多·恩古源 .

中国专利 :CN102017081B ,2011-04-13

[10]

立方氮化硼压块 [P].

N·卡恩 ;

S·A·安德森 .

中国专利 :CN101084170A ,2007-12-05

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