用于氮化硼膜的ALD沉积的含硼前体

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN202380041061.X

申请日：

2023-04-12

公开(公告)号：

CN119213168A

公开(公告)日：

2024-12-27

发明(设计)人：

R·N·维蒂斯金武性 H·钱德拉雷新建

申请人：

弗萨姆材料美国有限责任公司

申请人地址：

美国亚利桑那州

IPC主分类号：

C23C16/455

IPC分类号：

C23C16/34 C07F5/00

代理机构：

北京市金杜律师事务所 11256

代理人：

吴亦华;徐志明

法律状态：

实质审查的生效

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2025-04-11	实质审查的生效	实质审查的生效IPC(主分类):C23C 16/455申请日:20230412
2024-12-27	公开	公开

共 50 条

[1]

使用肼基前体沉积氮化硼膜 [P].

C.德泽拉 ;

T.布兰夸特 .

中国专利 :CN115704091A ,2023-02-17

[2]

沉积敷形氮化硼膜 [P].

乔治·安德鲁·安东内利 ;

曼迪亚姆·西里拉姆 ;

维什瓦纳坦·兰加拉詹 ;

普拉莫德·苏布拉莫尼姆 .

中国专利 :CN103119196B ,2013-05-22

[3]

用于沉积氮化硼的方法和系统 [P].

M·S·德阿布鲁内托 ;

J·全 ;

I·阿卜德拉奥伊 ;

T·布兰夸特 ;

R·H·J·沃乌尔特 .

:CN118186364A ,2024-06-14

[4]

氮化硼和氮化硼导出材料的沉积方法 [P].

J-u·许 ;

M·巴尔塞努 ;

夏立群 ;

V·T·恩古耶 ;

D·R·威蒂 ;

H·M'塞德 .

中国专利 :CN101690420B ,2010-03-31

[5]

掺杂的非晶氮化硼膜和用于使非晶氮化硼膜稳定的方法 [P].

慎镛宇 ;

阿里·哈姆扎 ;

V·拉奇维塔 .

韩国专利 :CN120511259A ,2025-08-19

[6]

烧结的氮化硼体以及制备烧结的氮化硼体的方法 [P].

R·K·格劳 ;

R·恩古蒙尼亚皮 ;

H·J·施魏格尔 .

中国专利 :CN104671794A ,2015-06-03

[7]

立方氮化硼、制造立方氮化硼的方法、含有立方氮化硼的砂轮、和烧结立方氮化硼压制体 [P].

井原荣治 ;

柳泽泰州 .

中国专利 :CN101362591B ,2009-02-11

[8]

六方氮化硼沉积 [P].

沈泽清 ;

S·S·罗伊 ;

A·B·玛里克 .

美国专利 :CN118077030A ,2024-05-24

[9]

立方氮化硼、制造立方氮化硼的方法、含有立方氮化硼的砂轮、和烧结立方氮化硼压制体 [P].

井原荣治 ;

柳泽泰州 .

中国专利 :CN1836022A ,2006-09-20

[10]

氮化硼及生产氮化硼的方法 [P].

纳拉扬·S·霍斯马内 ;

阿马特亚·扎克拉巴蒂 ;

谢娜·M·斯坦利 .

中国专利 :CN106414311A ,2017-02-15

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