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PMOS晶体管的形成方法
被引:0
专利类型
:
发明
申请号
:
CN201410301930.0
申请日
:
2014-06-27
公开(公告)号
:
CN105206530A
公开(公告)日
:
2015-12-30
发明(设计)人
:
刘佳磊
申请人
:
申请人地址
:
201203 上海市浦东新区张江路18号
IPC主分类号
:
H01L21336
IPC分类号
:
代理机构
:
北京集佳知识产权代理有限公司 11227
代理人
:
吴圳添;骆苏华
法律状态
:
实质审查的生效
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2016-01-27
实质审查的生效
实质审查的生效 号牌文件类型代码:1604 号牌文件序号:101643920503 IPC(主分类):H01L 21/336 专利申请号:2014103019300 申请日:20140627
2015-12-30
公开
公开
共 50 条
[1]
PMOS晶体管的形成方法
[P].
邓浩
论文数:
0
引用数:
0
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0
邓浩
;
张彬
论文数:
0
引用数:
0
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0
张彬
.
中国专利
:CN103165448A
,2013-06-19
[2]
PMOS晶体管的形成方法
[P].
禹国宾
论文数:
0
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0
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0
禹国宾
.
中国专利
:CN105244278A
,2016-01-13
[3]
PMOS晶体管的形成方法及CMOS晶体管的形成方法
[P].
何永根
论文数:
0
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0
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0
何永根
.
中国专利
:CN104425265A
,2015-03-18
[4]
PMOS晶体管的形成方法
[P].
三重野文健
论文数:
0
引用数:
0
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0
三重野文健
.
中国专利
:CN104681436A
,2015-06-03
[5]
PMOS晶体管的形成方法
[P].
赵猛
论文数:
0
引用数:
0
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0
赵猛
.
中国专利
:CN106960795A
,2017-07-18
[6]
PMOS晶体管及形成方法
[P].
赵猛
论文数:
0
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0
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0
赵猛
.
中国专利
:CN103377941B
,2013-10-30
[7]
半导体结构的形成方法,PMOS晶体管的形成方法
[P].
涂火金
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涂火金
;
林静
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林静
;
何永根
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0
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何永根
.
中国专利
:CN102931058B
,2013-02-13
[8]
PMOS晶体管及其形成方法
[P].
刘金华
论文数:
0
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0
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刘金华
.
中国专利
:CN104465377B
,2015-03-25
[9]
PMOS晶体管及其形成方法
[P].
韩秋华
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韩秋华
;
肖莉红
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肖莉红
.
中国专利
:CN106298527B
,2017-01-04
[10]
PMOS晶体管及其形成方法
[P].
张海洋
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张海洋
;
郑喆
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0
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郑喆
.
中国专利
:CN106298915A
,2017-01-04
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