PMOS晶体管的形成方法

被引:0
专利类型
发明
申请号
CN201610016236.3
申请日
2016-01-11
公开(公告)号
CN106960795A
公开(公告)日
2017-07-18
发明(设计)人
赵猛
申请人
申请人地址
100176 北京市大兴区经济技术开发区文昌大道18号
IPC主分类号
H01L21336
IPC分类号
H01L2906 H01L2908
代理机构
北京集佳知识产权代理有限公司 11227
代理人
吴敏
法律状态
实质审查的生效
国省代码
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共 50 条
[1]
PMOS晶体管的形成方法 [P]. 
禹国宾 .
中国专利 :CN105244278A ,2016-01-13
[2]
PMOS晶体管的形成方法 [P]. 
三重野文健 .
中国专利 :CN104681436A ,2015-06-03
[3]
PMOS晶体管的形成方法 [P]. 
刘佳磊 .
中国专利 :CN105206530A ,2015-12-30
[4]
PMOS晶体管的形成方法 [P]. 
邓浩 ;
张彬 .
中国专利 :CN103165448A ,2013-06-19
[5]
PMOS晶体管的形成方法及CMOS晶体管的形成方法 [P]. 
何永根 .
中国专利 :CN104425265A ,2015-03-18
[6]
PMOS晶体管及其形成方法 [P]. 
禹国宾 .
中国专利 :CN105336776A ,2016-02-17
[7]
PMOS晶体管及形成方法 [P]. 
赵猛 .
中国专利 :CN103377941B ,2013-10-30
[8]
PMOS晶体管的形成方法 [P]. 
涂火金 .
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[9]
PMOS晶体管的形成方法 [P]. 
何永根 ;
陈勇 .
中国专利 :CN103426767A ,2013-12-04
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PMOS晶体管的形成方法 [P]. 
卢炯平 ;
何有丰 .
中国专利 :CN102479711B ,2012-05-30