PMOS晶体管的形成方法

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专利类型
发明
申请号
CN201410603287.7
申请日
2014-10-30
公开(公告)号
CN105632927A
公开(公告)日
2016-06-01
发明(设计)人
涂火金
申请人
申请人地址
201203 上海市浦东新区张江路18号
IPC主分类号
H01L21336
IPC分类号
代理机构
北京集佳知识产权代理有限公司 11227
代理人
应战;骆苏华
法律状态
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国省代码
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共 50 条
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PMOS晶体管的形成方法 [P]. 
卢炯平 ;
何有丰 .
中国专利 :CN102479711B ,2012-05-30
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PMOS晶体管的形成方法 [P]. 
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PMOS晶体管的形成方法 [P]. 
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PMOS晶体管的形成方法 [P]. 
邓浩 ;
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PMOS晶体管的形成方法及CMOS晶体管的形成方法 [P]. 
何永根 .
中国专利 :CN104425265A ,2015-03-18