曝光装置以及基板的曝光方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201080002387.4

申请日：

2010-11-24

公开(公告)号：

CN102203677B

公开(公告)日：

2011-09-28

发明(设计)人：

池渊宏户川悟永井新一郎桐生恭孝

申请人：

申请人地址：

日本东京都

IPC主分类号：

G03F720

IPC分类号：

H01L21027 H01L21683

代理机构：

北京泛诚知识产权代理有限公司 11298

代理人：

陈波;杨本良

法律状态：

公开

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2011-09-28	公开	公开
2016-01-27	专利申请权、专利权的转移	专利权的转移号牌文件类型代码:1602 号牌文件序号:101727039586 IPC(主分类):G03F 7/20 专利号:ZL2010800023874 登记生效日:20160106 变更事项:专利权人变更前权利人:VN 系统有限公司变更后权利人:株式会社V技术变更事项:地址变更前权利人:日本神奈川变更后权利人:日本神奈川
2013-11-06	授权	授权
2016-01-27	专利权人的姓名或者名称、地址的变更	专利权人的姓名或者名称、地址的变更号牌文件类型代码:1602 号牌文件序号:101727039585 IPC(主分类):G03F 7/20 专利号:ZL2010800023874 变更事项:专利权人变更前:恩斯克科技有限公司变更后:VN 系统有限公司变更事项:地址变更前:日本东京都变更后:日本神奈川
2011-11-23	实质审查的生效	实质审查的生效号牌文件类型代码:1604 号牌文件序号:101137312035 IPC(主分类):G03F 7/20 专利申请号:2010800023874 申请日:20101124
2012-05-23	专利申请权、专利权的转移	专利申请权的转移号牌文件类型代码:1602 号牌文件序号:101355727008 IPC(主分类):G03F 7/20 专利申请号:2010800023874 变更事项:申请人变更前权利人:日本精工株式会社变更后权利人:恩斯克科技有限公司变更事项:地址变更前权利人:日本东京都变更后权利人:日本东京都登记生效日:20120411

共 50 条

[1]

曝光装置、曝光方法以及基板的制造方法 [P].

伊达宽一 .

日本专利 :CN114077165B ,2025-07-25

[2]

用于曝光基板的曝光装置以及曝光面板的方法 [P].

廖英智 .

中国专利 :CN1648729A ,2005-08-03

[3]

曝光装置、基板处理装置、曝光方法以及基板处理方法 [P].

中山知佐世 ;

田中裕二 ;

春本将彦 ;

浅井正也 ;

福本靖博 ;

金山幸司 .

中国专利 :CN109541890B ,2019-03-29

[4]

基板曝光装置及基板曝光方法 [P].

田端秀敏 .

中国专利 :CN101025575A ,2007-08-29

[5]

曝光用光源、曝光装置、曝光方法、以及面板基板的制造方法 [P].

森顺一 .

中国专利 :CN101154052B ,2008-04-02

[6]

曝光装置以及曝光方法和布线基板的制造方法 [P].

山口欣秀 ;

岸雅一 .

中国专利 :CN1904741A ,2007-01-31

[7]

曝光方法以及曝光装置 [P].

滨崎正和 .

中国专利 :CN111522204A ,2020-08-11

[8]

曝光方法以及曝光装置 [P].

侯广杰 ;

叶小龙 ;

王栋 ;

谢超 .

中国专利 :CN113703280A ,2021-11-26

[9]

曝光方法以及曝光装置 [P].

中井一博 .

日本专利 :CN119452311A ,2025-02-14

[10]

曝光装置以及曝光方法 [P].

西健尔 ;

太田和哉 .

中国专利 :CN1244019C ,2001-11-21

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