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光清洗处理装置
被引：0
专利类型：
发明
申请号：
CN201780041541.0
申请日：
2017-06-16
公开(公告)号：
CN109414849B
公开(公告)日：
2019-03-01
发明(设计)人：
吉原启太
广濑贤一
申请人：
申请人地址：
日本国东京都千代田区
IPC主分类号：
B29C3372
IPC分类号：
B08B700
B29C5902
H01L21027
代理机构：
中原信达知识产权代理有限责任公司 11219
代理人：
王兆阳;苏卉
法律状态：
公开
国省代码：
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法律状态
| 法律状态公告日 | 法律状态 | 法律状态信息 |
| 2019-03-01 | 公开 | 公开 |
| 2019-03-26 | 实质审查的生效 | 实质审查的生效 IPC(主分类):B29C 33/72 申请日:20170616 |
| 2022-05-10 | 授权 | 授权 |