沟槽金氧半导体元件及其制造方法

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专利类型
发明
申请号
CN201810093147.8
申请日
2018-01-31
公开(公告)号
CN109841611A
公开(公告)日
2019-06-04
发明(设计)人
陈劲甫
申请人
申请人地址
中国台湾新竹县竹北市台元一街5号9楼之6
IPC主分类号
H01L2702
IPC分类号
代理机构
北京同立钧成知识产权代理有限公司 11205
代理人
吴志红;臧建明
法律状态
专利申请权、专利权的转移
国省代码
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共 50 条
[1]
沟槽金氧半导体元件及其制造方法 [P]. 
陈劲甫 .
中国专利 :CN109841610A ,2019-06-04
[2]
沟槽金氧半导体元件及其制造方法 [P]. 
陈劲甫 .
中国专利 :CN109904232A ,2019-06-18
[3]
沟槽金氧半导体元件及其制造方法 [P]. 
陈劲甫 .
中国专利 :CN110010685A ,2019-07-12
[4]
沟槽金氧半导体元件 [P]. 
陈劲甫 .
中国专利 :CN110034179A ,2019-07-19
[5]
沟槽金氧半导体元件 [P]. 
陈劲甫 .
中国专利 :CN110021656A ,2019-07-16
[6]
横向双扩散金氧半导体元件及其制造方法 [P]. 
许嘉伦 ;
刘慕义 ;
卢道政 ;
杨怡箴 ;
陈冠博 .
中国专利 :CN1825551A ,2006-08-30
[7]
互补式金氧半导体元件及其制造方法 [P]. 
余振华 ;
姚亮吉 ;
林正堂 .
中国专利 :CN101312158B ,2008-11-26
[8]
沟槽式功率半导体元件及其制造方法 [P]. 
许修文 .
中国专利 :CN107808827B ,2018-03-16
[9]
沟槽式功率半导体元件及其制造方法 [P]. 
许修文 ;
叶俊莹 ;
李元铭 .
中国专利 :CN109216449A ,2019-01-15
[10]
沟槽式功率半导体元件及其制造方法 [P]. 
张渊舜 ;
蔡依芸 ;
涂高维 .
中国专利 :CN102938414B ,2013-02-20