沟槽金氧半导体元件

被引:0
专利类型
发明
申请号
CN201810182898.7
申请日
2018-03-06
公开(公告)号
CN110021656A
公开(公告)日
2019-07-16
发明(设计)人
陈劲甫
申请人
申请人地址
中国台湾新竹县竹北市台元一街5号9楼之6
IPC主分类号
H01L2940
IPC分类号
代理机构
北京同立钧成知识产权代理有限公司 11205
代理人
马雯雯;臧建明
法律状态
发明专利申请公布后的视为撤回
国省代码
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共 50 条
[1]
沟槽金氧半导体元件 [P]. 
陈劲甫 .
中国专利 :CN110034179A ,2019-07-19
[2]
沟槽金氧半导体元件及其制造方法 [P]. 
陈劲甫 .
中国专利 :CN109904232A ,2019-06-18
[3]
沟槽金氧半导体元件及其制造方法 [P]. 
陈劲甫 .
中国专利 :CN109841610A ,2019-06-04
[4]
沟槽金氧半导体元件及其制造方法 [P]. 
陈劲甫 .
中国专利 :CN110010685A ,2019-07-12
[5]
沟槽金氧半导体元件及其制造方法 [P]. 
陈劲甫 .
中国专利 :CN109841611A ,2019-06-04
[6]
水平扩散金氧半导体元件 [P]. 
苏潮源 ;
吴清逸 ;
陈弘斌 ;
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[7]
沟槽式半导体元件 [P]. 
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[8]
部分空乏SOI金氧半导体元件 [P]. 
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[9]
沟槽式功率半导体元件 [P]. 
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[10]
半导体元件沟槽式结构 [P]. 
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