辐射源模块和光刻设备

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201880041791.9

申请日：

2018-06-08

公开(公告)号：

CN110799904A

公开(公告)日：

2020-02-14

发明(设计)人：

H·帕特尔马悦 G·纳基伯格鲁 A·P·里杰普马 A·J·范德内特 R·H·弗黑斯阳宗全

申请人：

申请人地址：

荷兰维德霍温

IPC主分类号：

G03F720

IPC分类号：

H05G200

代理机构：

北京市金杜律师事务所 11256

代理人：

李兴斌

法律状态：

实质审查的生效

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2020-07-17	实质审查的生效	实质审查的生效 IPC(主分类):G03F 7/20 申请日:20180608
2020-02-14	公开	公开

共 50 条

[1]

EUV辐射源和光刻设备 [P].

E·鲁普斯特拉 ;

G·斯温克尔斯 ;

E·布雷曼 ;

W·梅斯特龙 .

中国专利 :CN102714911A ,2012-10-03

[2]

辐射源和光刻设备 [P].

M·A·C·斯凯皮斯 ;

M·F·A·欧林斯 ;

F·J·J·杰森 ;

B·J·A·斯道米恩 ;

H·J·M·柯鲁维尔 ;

J·考亨 ;

H·帕特尔 ;

P·W·J·杰森 ;

M·K·J·伯恩 .

中国专利 :CN102819194B ,2012-12-12

[3]

辐射源和光刻设备 [P].

O·诺德曼 ;

M·奥林斯 .

中国专利 :CN105474101B ,2016-04-06

[4]

辐射源和光刻设备 [P].

A·亚库宁 ;

V·班尼恩 ;

V·伊万诺夫 ;

E·鲁普斯特拉 ;

V·克里夫特苏恩 ;

G·斯温克尔斯 ;

D·兰贝特斯基 .

中国专利 :CN103257532B ,2013-08-21

[5]

辐射源和光刻设备 [P].

C·华格纳 ;

E·鲁普斯特拉 .

中国专利 :CN103748968A ,2014-04-23

[6]

辐射源和光刻设备 [P].

A·亚库宁 ;

V·班尼恩 ;

V·伊万诺夫 ;

E·鲁普斯特拉 ;

V·克里夫特苏恩 ;

G·斯温克尔斯 ;

D·兰贝特斯基 .

中国专利 :CN102144191B ,2011-08-03

[7]

辐射源、光刻设备以及器件制造方法 [P].

V·Y·班尼恩 ;

M·M·J·W·范赫彭 ;

W·A·索尔 .

中国专利 :CN101911839A ,2010-12-08

[8]

辐射源和光刻设备 [P].

H·斯希梅尔 ;

J·迪吉克斯曼 ;

D·兰贝特斯基 .

中国专利 :CN103765998A ,2014-04-30

[9]

辐射源、光刻设备和器件制造方法 [P].

V·Y·巴尼内 ;

E·R·鲁普斯特拉 ;

J·H·J·莫尔斯 .

中国专利 :CN102119365A ,2011-07-06

[10]

A·亚库宁 ;

V·伊万诺夫 ;

J·范斯库特 ;

V·克里夫特苏恩 ;

G·斯温克尔斯 ;

V·梅德韦杰夫 .

中国专利 :CN103782662B ,2014-05-07

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