辐射源和光刻设备

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201210183908.1

申请日：

2012-06-05

公开(公告)号：

CN102819194B

公开(公告)日：

2012-12-12

发明(设计)人：

M·A·C·斯凯皮斯 M·F·A·欧林斯 F·J·J·杰森 B·J·A·斯道米恩 H·J·M·柯鲁维尔 J·考亨 H·帕特尔 P·W·J·杰森 M·K·J·伯恩

申请人：

申请人地址：

荷兰维德霍温

IPC主分类号：

G03F720

IPC分类号：

H05G200

代理机构：

中科专利商标代理有限责任公司 11021

代理人：

吴敬莲

法律状态：

实质审查的生效

国省代码：

引用

下载

收藏

法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2014-07-09	实质审查的生效	实质审查的生效号牌文件类型代码:1604 号牌文件序号:101583507613 IPC(主分类):G03F 7/20 专利申请号:2012101839081 申请日:20120605
2012-12-12	公开	公开

共 50 条

[1]

辐射源模块和光刻设备 [P].

H·帕特尔 ;

马悦 ;

G·纳基伯格鲁 ;

A·P·里杰普马 ;

A·J·范德内特 ;

R·H·弗黑斯 ;

阳宗全 .

中国专利 :CN110799904A ,2020-02-14

[2]

EUV辐射源和光刻设备 [P].

E·鲁普斯特拉 ;

G·斯温克尔斯 ;

E·布雷曼 ;

W·梅斯特龙 .

中国专利 :CN102714911A ,2012-10-03

[3]

辐射源和光刻设备 [P].

O·诺德曼 ;

M·奥林斯 .

中国专利 :CN105474101B ,2016-04-06

[4]

辐射源和光刻设备 [P].

A·亚库宁 ;

V·班尼恩 ;

V·伊万诺夫 ;

E·鲁普斯特拉 ;

V·克里夫特苏恩 ;

G·斯温克尔斯 ;

D·兰贝特斯基 .

中国专利 :CN103257532B ,2013-08-21

[5]

辐射源和光刻设备 [P].

C·华格纳 ;

E·鲁普斯特拉 .

中国专利 :CN103748968A ,2014-04-23

[6]

辐射源和光刻设备 [P].

A·亚库宁 ;

V·班尼恩 ;

V·伊万诺夫 ;

E·鲁普斯特拉 ;

V·克里夫特苏恩 ;

G·斯温克尔斯 ;

D·兰贝特斯基 .

中国专利 :CN102144191B ,2011-08-03

[7]

辐射源和光刻设备 [P].

H·斯希梅尔 ;

J·迪吉克斯曼 ;

D·兰贝特斯基 .

中国专利 :CN103765998A ,2014-04-30

[8]

辐射源、光刻设备和器件制造方法 [P].

V·Y·巴尼内 ;

E·R·鲁普斯特拉 ;

J·H·J·莫尔斯 .

中国专利 :CN102119365A ,2011-07-06

[9]

辐射源设备和方法、光刻设备和检查设备 [P].

N·斯伯克 ;

P·C·M·普兰肯 .

中国专利 :CN110088682B ,2019-08-02

[10]

J·范斯库特 ;

A·凯姆鹏 ;

H·克鲁威尔 ;

A·M·雅库尼恩 .

中国专利 :CN104488362A ,2015-04-01

← 1 2 3 4 5 →