一种一次成型超高纯等静压石墨材料的制备工艺

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN202110473686.6

申请日：

2021-04-29

公开(公告)号：

CN113213937B

公开(公告)日：

2021-08-06

发明(设计)人：

杨斌

申请人：

申请人地址：

518000 广东省深圳市盐田区东海道明珠花园A区10栋301

IPC主分类号：

C04B35532

IPC分类号：

C04B35645 C04B3564 C04B3583

代理机构：

北京酷爱智慧知识产权代理有限公司 11514

代理人：

刘娟

法律状态：

实质审查的生效

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2021-08-24	实质审查的生效	实质审查的生效 IPC(主分类):C04B 35/532 申请日:20210429
2021-08-06	公开	公开
2022-08-23	授权	授权

共 50 条

[1]

一种高纯石墨等静压成型工艺 [P].

赵世梁 ;

马军利 ;

赵伟舟 ;

王东旭 ;

杨帅兵 .

中国专利 :CN118580075A ,2024-09-03

[2]

一种用于工艺制品加工的等静压石墨制备工艺 [P].

黄岱 ;

李贺 ;

刘涛 ;

杨华丰 .

中国专利 :CN112194488A ,2021-01-08

[3]

一种等静压高纯石墨材料及其制备方法 [P].

臧文平 ;

赵继国 ;

殷正娥 ;

兰建云 ;

赵旭 ;

刘志鹏 .

中国专利 :CN104386670B ,2015-03-04

[4]

一种等静压各向同性石墨的制备工艺 [P].

廖斌 ;

朱仕高 ;

朱峰 .

中国专利 :CN105271207A ,2016-01-27

[5]

一种高纯石墨制备用等静压成型装置 [P].

李辉峰 .

中国专利 :CN202968125U ,2013-06-05

[6]

一种生产等静压石墨的工艺方法 [P].

郭全贵 ;

刘占军 ;

刘朗 ;

宋进仁 ;

张俊鹏 ;

张军华 ;

刘长安 .

中国专利 :CN101823707A ,2010-09-08

[7]

一种等静压石墨的制备工艺 [P].

刘金平 ;

杨程 ;

何成林 ;

宋伟杰 ;

李启常 ;

熊杰 ;

张宇 .

中国专利 :CN120483720A ,2025-08-15

[8]

一种光谱分析用高纯等静压石墨材料及其制备方法 [P].

闵洁 ;

高智 ;

张培林 ;

张彦举 .

中国专利 :CN113979750A ,2022-01-28

[9]

一种半导体用一次成型等静压石墨的生产工艺 [P].

秦斌 ;

杨捷 ;

沈永辉 ;

杨程 ;

王雪诚 ;

陈梦楠 ;

倪会香 .

中国专利 :CN119350030A ,2025-01-24

[10]

一种等静压石墨的制备方法 [P].

李华青 .

中国专利 :CN117964366A ,2024-05-03

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