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一种半导体用一次成型等静压石墨的生产工艺

被引：0
专利类型：
发明
申请号：
CN202411471071.X
申请日：
2024-10-22
公开(公告)号：
CN119350030A
公开(公告)日：
2025-01-24
发明(设计)人：
秦斌 杨捷 沈永辉 杨程 王雪诚 陈梦楠 倪会香
申请人：
江苏宏基高新材料股份有限公司
申请人地址：
223700 江苏省宿迁市泗阳县众兴镇浙江路南侧太湖路东侧(泗阳经济开发区)
IPC主分类号：
C04B35/532
IPC分类号：
B01F33/83 B02C13/18 B08B9/38 C04B35/622
代理机构：
北京华智则铭知识产权代理有限公司 11573
代理人：
张莹
法律状态：
公开
国省代码：
安徽省 淮南市
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法律状态
法律状态公告日 法律状态 法律状态信息
2025-01-24 公开 公开
2025-02-18 实质审查的生效 实质审查的生效IPC(主分类):C04B 35/532申请日:20241022
共 50 条
[1]
一种半导体用大规格等静压石墨生产工艺 [P]. 
项佳辉 ;
陈潜 ;
钱壮 ;
李启航 ;
兰红英 ;
李维娟 ;
窦栋 .
中国专利 :CN120794626A ,2025-10-17
[2]
一种半导体硅片生产用等静压石墨的生产工艺 [P]. 
周大伟 ;
杨捷 ;
杨程 ;
沈永辉 ;
王雪诚 .
中国专利 :CN118637915B ,2024-11-26
[3]
一种半导体硅片生产用等静压石墨的生产工艺 [P]. 
周大伟 ;
杨捷 ;
杨程 ;
沈永辉 ;
王雪诚 .
中国专利 :CN118637915A ,2024-09-13
[4]
一种半导体用等静压石墨生产系统 [P]. 
杨捷 ;
秦斌 ;
沈永辉 ;
杨程 ;
王雪诚 ;
陈梦楠 ;
倪会香 .
中国专利 :CN119370838A ,2025-01-28
[5]
一种半导体用等静压石墨的生产设备 [P]. 
周大伟 ;
杨捷 ;
杨程 ;
沈永辉 ;
王雪诚 .
中国专利 :CN118342674B ,2025-01-21
[6]
一种半导体用等静压石墨的生产设备 [P]. 
周大伟 ;
杨捷 ;
杨程 ;
沈永辉 ;
王雪诚 .
中国专利 :CN118342674A ,2024-07-16
[7]
一种半导体用等静压石墨的生产方法 [P]. 
杨华丰 ;
梁斌 ;
龚建超 ;
刘学 .
中国专利 :CN119797953A ,2025-04-11
[8]
等静压石墨的生产工艺、等静压石墨及应用 [P]. 
吕尊华 ;
李俊海 ;
纪斌 ;
姚亮 ;
万伟光 .
中国专利 :CN116120068B ,2024-12-06
[9]
一种半导体用等静压石墨及其制备方法 [P]. 
林勇 ;
朱约辉 .
中国专利 :CN117923933A ,2024-04-26
[10]
一种等静压石墨生产工艺 [P]. 
吴庆斌 .
中国专利 :CN115974555B ,2024-01-26
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