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对准偏差的测量方法
被引:0
申请号
:
CN202211185276.2
申请日
:
2022-09-27
公开(公告)号
:
CN115602564A
公开(公告)日
:
2023-01-13
发明(设计)人
:
巫奉伦
夏忠平
王嘉鸿
申请人
:
申请人地址
:
362200 福建省泉州市晋江市集成电路科学园联华大道88号
IPC主分类号
:
H01L2166
IPC分类号
:
H01L23544
G03F900
G01B2100
代理机构
:
深圳市嘉勤知识产权代理有限公司 44651
代理人
:
汤金燕
法律状态
:
公开
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2023-01-13
公开
公开
2023-02-07
实质审查的生效
实质审查的生效 IPC(主分类):H01L 21/66 申请日:20220927
共 50 条
[1]
对准测量方法
[P].
包巧霞
论文数:
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包巧霞
;
邓贵红
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邓贵红
;
余志贤
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余志贤
.
中国专利
:CN105446090B
,2016-03-30
[2]
位移偏差测量方法
[P].
霍晔
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机构:
中国电子科技集团公司第十三研究所
中国电子科技集团公司第十三研究所
霍晔
;
吴爱华
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机构:
中国电子科技集团公司第十三研究所
中国电子科技集团公司第十三研究所
吴爱华
;
王一帮
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机构:
中国电子科技集团公司第十三研究所
中国电子科技集团公司第十三研究所
王一帮
;
刘晨
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机构:
中国电子科技集团公司第十三研究所
中国电子科技集团公司第十三研究所
刘晨
;
栾鹏
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机构:
中国电子科技集团公司第十三研究所
中国电子科技集团公司第十三研究所
栾鹏
;
梁法国
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机构:
中国电子科技集团公司第十三研究所
中国电子科技集团公司第十三研究所
梁法国
;
孙静
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机构:
中国电子科技集团公司第十三研究所
中国电子科技集团公司第十三研究所
孙静
;
陈晓华
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机构:
中国电子科技集团公司第十三研究所
中国电子科技集团公司第十三研究所
陈晓华
;
张立飞
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机构:
中国电子科技集团公司第十三研究所
中国电子科技集团公司第十三研究所
张立飞
;
丁立强
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机构:
中国电子科技集团公司第十三研究所
中国电子科技集团公司第十三研究所
丁立强
.
中国专利
:CN114719710B
,2024-01-30
[3]
位移偏差测量方法
[P].
霍晔
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霍晔
;
吴爱华
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吴爱华
;
王一帮
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王一帮
;
刘晨
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刘晨
;
栾鹏
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栾鹏
;
梁法国
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梁法国
;
孙静
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孙静
;
陈晓华
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陈晓华
;
张立飞
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张立飞
;
丁立强
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丁立强
.
中国专利
:CN114719710A
,2022-07-08
[4]
对准误差测量方法
[P].
齐月静
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齐月静
;
杨光华
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杨光华
;
王宇
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王宇
;
李璟
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李璟
;
卢增雄
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卢增雄
;
齐威
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齐威
;
孟璐璐
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孟璐璐
.
中国专利
:CN110967948B
,2020-04-07
[5]
套刻偏差的测量方法
[P].
张海
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张海
;
杨晓松
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杨晓松
;
吴怡旻
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吴怡旻
.
中国专利
:CN114609090A
,2022-06-10
[6]
套刻偏差的测量方法
[P].
张海
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机构:
中芯南方集成电路制造有限公司
中芯南方集成电路制造有限公司
张海
;
杨晓松
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机构:
中芯南方集成电路制造有限公司
中芯南方集成电路制造有限公司
杨晓松
;
吴怡旻
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机构:
中芯南方集成电路制造有限公司
中芯南方集成电路制造有限公司
吴怡旻
.
中国专利
:CN114609090B
,2025-12-19
[7]
节点偏差测量仪及节点偏差的测量方法
[P].
靳盼盼
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靳盼盼
;
李勇
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李勇
;
甘水来
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甘水来
;
黄祖钦
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黄祖钦
;
金丽丽
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金丽丽
.
中国专利
:CN109780962A
,2019-05-21
[8]
栅极线的对准测量方法
[P].
许波
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许波
;
严萍
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严萍
;
杨川
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杨川
;
高晶
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高晶
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喻兰芳
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喻兰芳
;
丁蕾
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丁蕾
.
中国专利
:CN107993952A
,2018-05-04
[9]
光学测量组件、对准测量装置及对准测量方法
[P].
陈跃飞
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陈跃飞
;
徐兵
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徐兵
.
中国专利
:CN115542673A
,2022-12-30
[10]
自对准成像工艺硬掩膜层刻蚀偏差的测量方法
[P].
钱睿
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钱睿
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赖璐璐
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赖璐璐
;
刘必秋
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刘必秋
;
张聪
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张聪
.
中国专利
:CN114695121A
,2022-07-01
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