用于金属基片的电化学抛光装置

被引：0

专利类型：

实用新型

申请号：

CN201420779218.7

申请日：

2014-12-04

公开(公告)号：

CN204298503U

公开(公告)日：

2015-04-29

发明(设计)人：

朱晓飞宋东虹

申请人：

申请人地址：

450100 河南省荥阳市广武镇黑李村黑李147号

IPC主分类号：

C25F316

IPC分类号：

代理机构：

代理人：

法律状态：

专利权的终止

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2017-02-08	专利权的终止	未缴年费专利权终止号牌文件类型代码:1605 号牌文件序号:101702106502 IPC(主分类):C25F 3/16 专利号:ZL2014207792187 申请日:20141204 授权公告日:20150429 终止日期:20151204
2015-04-29	授权	授权

共 50 条

[1]

电化学抛光装置 [P].

庄维伟 ;

高永超 ;

程好 ;

杨淑平 ;

蔡渊 ;

贺昱旻 .

中国专利 :CN203174217U ,2013-09-04

[2]

微细导管的电化学抛光装置 [P].

蒋婉 ;

蔡苗 ;

何倩 .

中国专利 :CN205275771U ,2016-06-01

[3]

电化学抛光装置 [P].

向城 ;

刁宇新 ;

叶知春 .

中国专利 :CN217839194U ,2022-11-18

[4]

电化学抛光装置 [P].

于丽 .

中国专利 :CN216738622U ,2022-06-14

[5]

一种用于电化学抛光仪器的阴极工装和电化学抛光仪器 [P].

梁婷婷 ;

宋建华 .

中国专利 :CN221501297U ,2024-08-09

[6]

一种电化学抛光装置 [P].

邓辉 .

中国专利 :CN207276776U ,2018-04-27

[7]

电化学抛光装置和方法 [P].

庄维伟 ;

高永超 ;

程好 ;

杨淑平 ;

蔡渊 ;

贺昱旻 .

中国专利 :CN104032366A ,2014-09-10

[8]

支架电化学抛光装置 [P].

蔡蒙 ;

梅森 ;

沈丹鸿 .

中国专利 :CN223226221U ,2025-08-15

[9]

新型电化学抛光装置 [P].

贾照伟 ;

王坚 ;

王晖 .

中国专利 :CN104894634A ,2015-09-09

[10]

一种逐步电化学抛光装置 [P].

王平 .

中国专利 :CN202688499U ,2013-01-23

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