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变倍光学系统、光学设备以及变倍光学系统的制造方法
被引：0
专利类型：
发明
申请号：
CN202080043267.2
申请日：
2020-05-27
公开(公告)号：
CN114026481A
公开(公告)日：
2022-02-08
发明(设计)人：
町田幸介
申请人：
申请人地址：
日本东京
IPC主分类号：
G02B710
IPC分类号：
G02B1514
代理机构：
中原信达知识产权代理有限责任公司 11219
代理人：
季莹;方应星
法律状态：
公开
国省代码：
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法律状态
| 法律状态公告日 | 法律状态 | 法律状态信息 |
| 2022-02-08 | 公开 | 公开 |
| 2022-02-25 | 实质审查的生效 | 实质审查的生效 IPC(主分类):G02B 7/10 申请日:20200527 |