二氧化硅‑改性的‑氟化物广角减反射涂层

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201380028469.X

申请日：

2013-05-29

公开(公告)号：

CN104508559B

公开(公告)日：

2015-04-08

发明(设计)人：

M·J·康杰米 P·G·德瓦 J·D·玛拉齐 P·F·米开罗斯基 H·施赖伯王珏

申请人：

申请人地址：

美国纽约州

IPC主分类号：

G03F720

IPC分类号：

G02B1115

代理机构：

上海专利商标事务所有限公司 31100

代理人：

郭辉

法律状态：

实质审查的生效

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2015-05-13	实质审查的生效	实质审查的生效号牌文件类型代码:1604 号牌文件序号:101609519017 IPC(主分类):G03F 7/20 专利申请号:201380028469X 申请日:20130529
2017-10-24	授权	授权
2015-04-08	公开	公开

共 50 条

[1]

改性二氧化硅组合物 [P].

本间刚 ;

近藤圭英 ;

白井博明 .

中国专利 :CN104583332A ,2015-04-29

[2]

二氧化硅气凝胶薄膜的制备方法、减反射涂层和光学元件 [P].

铃木峰太 ;

盐川孝绅 ;

山田和广 ;

中山宽之 ;

山口日出树 ;

丸田彩子 .

中国专利 :CN101376501A ,2009-03-04

[3]

结构改性二氧化硅 [P].

J·迈尔 ;

K·施皮茨纳格尔 ;

H·－D·克里斯蒂安 .

中国专利 :CN100436548C ,2006-02-01

[4]

改性二氧化硅颗粒 [P].

P·A·雷斯托普 ;

A·特恩克罗纳 ;

J·利夫 ;

J·E·P·霍格布鲁姆 .

中国专利 :CN105308128A ,2016-02-03

[5]

改性二氧化硅颗粒 [P].

A·特恩克罗纳 ;

K·霍尔姆贝里 ;

R·博尔德 .

中国专利 :CN103415575B ,2013-11-27

[6]

表面改性的二氧化硅 [P].

J·迈尔 ;

M·肖尔茨 ;

K·舒马赫 .

中国专利 :CN101522820A ,2009-09-02

[7]

表面改性的二氧化硅 [P].

J·迈尔 ;

M·肖尔茨 .

中国专利 :CN101522565B ,2009-09-02

[8]

表面改性的二氧化硅 [P].

于尔根·迈尔 ;

亨宁·卡贝 ;

马里奥·肖尔茨 ;

库尔特·施皮茨纳格尔 .

中国专利 :CN101108730A ,2008-01-23

[9]

含改性多孔二氧化硅的抗反射涂料、制备方法及抗反射膜 [P].

刘新 ;

刘奕燎 ;

方彬宗 .

中国专利 :CN111253854A ,2020-06-09

[10]

硅烷生产方法、硅烷改性二氧化硅的方法及改性二氧化硅 [P].

安德里亚斯·雅各布 ;

大卫-拉斐尔·道尔 ;

尤利安·施特罗迈尔 ;

尤利娅·舍费尔 ;

卡拉·雷克 ;

基尔斯特·施韦肯迪克 ;

诺贝特·米勒 .

中国专利 :CN110799582B ,2020-02-14

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