含改性多孔二氧化硅的抗反射涂料、制备方法及抗反射膜

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN202010264701.1

申请日：

2020-04-07

公开(公告)号：

CN111253854A

公开(公告)日：

2020-06-09

发明(设计)人：

刘新刘奕燎方彬宗

申请人：

申请人地址：

510000 广东省广州市经济技术开发区蓝玉四街九号科技园5号楼7楼北707-710单元办公卡位35号

IPC主分类号：

C09D17514

IPC分类号：

C09D762 C09D500

代理机构：

厦门市新华专利商标代理有限公司 35203

代理人：

吴成开;徐勋夫

法律状态：

实质审查的生效

国省代码：

引用

下载

收藏

法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2020-07-03	实质审查的生效	实质审查的生效 IPC(主分类):C09D 175/14 申请日:20200407
2020-06-09	公开	公开
2023-01-06	发明专利申请公布后的驳回	发明专利申请公布后的驳回 IPC(主分类):C09D 175/14 申请公布日:20200609

共 50 条

[1]

包含大粒度热解法二氧化硅的抗反射膜 [P].

郝恩才 ;

张俊颖 ;

罗伯特·F·卡姆拉特 ;

刘兰虹 ;

程铭 ;

吴荣圣 ;

马克·J·佩莱里蒂 ;

理查德·J·波科尔尼 ;

苏雷什·S·耶尔 .

中国专利 :CN103518148B ,2014-01-15

[2]

多孔纳米二氧化硅减反射膜的制备方法 [P].

谢光明 ;

张英超 ;

王启 .

中国专利 :CN102674704B ,2012-09-19

[3]

多孔二氧化硅的制备方法以及多孔二氧化硅 [P].

今井宏明 ;

绪明佑哉 ;

渡辺洋人 .

中国专利 :CN102834355B ,2012-12-19

[4]

一种多孔二氧化硅减反射膜的制备方法 [P].

杨海龄 ;

郝雷 ;

张子楠 ;

王吉宁 ;

米菁 ;

于庆河 ;

杜淼 ;

赵旭山 ;

王笑静 ;

李世杰 ;

余航 ;

刘晓鹏 ;

蒋利军 .

中国专利 :CN106892575A ,2017-06-27

[5]

超疏水纳米多孔二氧化硅广角减反射膜及其制备方法 [P].

金闯 ;

李贵鹏 ;

明祥 ;

朱晓龙 ;

尹铮杰 ;

蒋晓明 .

中国专利 :CN118377071A ,2024-07-23

[6]

一种改性二氧化硅乳液的制备方法和反射隔热涂料 [P].

陆腾飞 ;

熊一帜 ;

张刚 ;

李著初 ;

阳区 .

中国专利 :CN112592442A ,2021-04-02

[7]

一种多孔二氧化硅减反射膜及其制备方法 [P].

杨海龄 ;

郝雷 ;

王吉宁 ;

张子楠 ;

刘晓鹏 ;

蒋利军 .

中国专利 :CN105776884A ,2016-07-20

[8]

二氧化硅‑改性的‑氟化物广角减反射涂层 [P].

M·J·康杰米 ;

P·G·德瓦 ;

J·D·玛拉齐 ;

P·F·米开罗斯基 ;

H·施赖伯 ;

王珏 .

中国专利 :CN104508559B ,2015-04-08

[9]

改性多孔质二氧化硅膜的制法、由该制法所得改性多孔质二氧化硅膜及含该膜的半导体装置 [P].

藤井宣年 ;

高村一夫 ;

三好秀典 ;

田中博文 ;

大池俊辅 ;

村上雅美 ;

窪田武司 ;

藏野义人 .

中国专利 :CN100474530C ,2008-02-06

[10]

表面改性纳米二氧化硅及含该二氧化硅的丙烯酸树脂涂料 [P].

江黎明 ;

陈耀祖 .

中国专利 :CN101497749B ,2009-08-05

← 1 2 3 4 5 →