用于半导体加工的超高纯化学品的现场混合系统及方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN96194564.8

申请日：

1996-06-05

公开(公告)号：

CN1204408A

公开(公告)日：

1999-01-06

发明(设计)人：

J·G·霍夫曼 R·S·克拉克 A·H·小琼斯

申请人：

申请人地址：

美国加利福尼亚州

IPC主分类号：

G05D1113

IPC分类号：

代理机构：

中国国际贸易促进委员会专利商标事务所

代理人：

孙爱

法律状态：

公开

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
1999-01-06	公开	公开
2002-12-11	发明专利申请公布后的视为撤回	发明专利申请公布后的视为撤回
1999-01-20	实质审查请求的生效	实质审查请求的生效

共 50 条

[1]

一种半导体加工用超高纯化学品运输监控系统及方法 [P].

陈胜前 .

中国专利 :CN117507993A ,2024-02-06

[2]

用于制造半导体芯片的高纯化学品的输送系统 [P].

戴志超 ;

叶国梁 ;

沈琦 .

中国专利 :CN117936428A ,2024-04-26

[3]

用于制造半导体芯片的高纯化学品的输送系统 [P].

戴志超 ;

叶国梁 ;

沈琦 .

中国专利 :CN117936428B ,2024-07-19

[4]

存储半导体超纯化学品的防震储罐 [P].

宋国华 .

中国专利 :CN210365204U ,2020-04-21

[5]

存储半导体超纯化学品的防爆储罐 [P].

宋国华 .

中国专利 :CN210456011U ,2020-05-05

[6]

现场超高纯度化学品或气体的纯化 [P].

T·E·康威 ;

V·Y·格施泰恩 ;

J·A·霍普金斯 ;

B·M·林登穆斯 ;

T·M·布斯 .

中国专利 :CN104043381B ,2014-09-17

[7]

半导体用超纯化学品储罐的无杂质加工车间 [P].

宋国华 .

中国专利 :CN216498342U ,2022-05-13

[8]

耐腐蚀的半导体用超纯化学品储罐 [P].

宋国华 .

中国专利 :CN217397341U ,2022-09-09

[9]

储存半导体超纯化学品的防泄漏的储罐 [P].

宋国华 .

中国专利 :CN210527427U ,2020-05-15

[10]

储存半导体超纯化学品的防泄漏的储罐 [P].

宋国华 .

中国专利 :CN110294229B ,2024-03-29

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