硅蚀刻液和蚀刻方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN200880109890.2

申请日：

2008-09-22

公开(公告)号：

CN101884095A

公开(公告)日：

2010-11-10

发明(设计)人：

矢口和义外赤隆二

申请人：

申请人地址：

日本东京都

IPC主分类号：

H01L21308

IPC分类号：

代理机构：

北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277

代理人：

刘新宇;李茂家

法律状态：

公开

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2010-11-10	公开	公开
2010-12-22	实质审查的生效	实质审查的生效号牌文件类型代码:1604 号牌文件序号:101026283811 IPC(主分类):H01L 21/308 专利申请号:2008801098902 申请日:20080922
2012-06-27	授权	授权

共 50 条

[1]

硅蚀刻液和蚀刻方法 [P].

藤音喜子 ;

外赤隆二 .

中国专利 :CN102576674A ,2012-07-11

[2]

硅蚀刻液和蚀刻方法 [P].

矢口和义 ;

外赤隆二 .

中国专利 :CN102027579B ,2011-04-20

[3]

硅蚀刻液和蚀刻方法 [P].

矢口和义 ;

外赤隆二 .

中国专利 :CN102113098A ,2011-06-29

[4]

蚀刻方法和蚀刻液 [P].

石川诚 ;

鎌田浩史 .

中国专利 :CN1946877A ,2007-04-11

[5]

蚀刻液和蚀刻方法 [P].

吴豪旭 .

中国专利 :CN113529085A ,2021-10-22

[6]

蚀刻液组合物和蚀刻方法 [P].

石崎隼郎 ;

大宫大辅 .

中国专利 :CN104233299B ,2014-12-24

[7]

蚀刻剂、蚀刻方法和蚀刻剂制备液 [P].

横沟贵宏 ;

鹤本浩之 ;

柿泽政彦 .

中国专利 :CN105378901B ,2016-03-02

[8]

蚀刻液的再生方法、蚀刻方法和蚀刻系统 [P].

伊豆田信彦 ;

村田贡 .

中国专利 :CN100336182C ,2004-05-12

[9]

蚀刻液、该蚀刻液的制造方法和使用该蚀刻液的蚀刻方法 [P].

河野良 ;

加藤胜 .

中国专利 :CN103132078A ,2013-06-05

[10]

蚀刻液组合物和蚀刻方法 [P].

青木珠美 ;

正元祐次 ;

斋尾佳秀 ;

石崎隼郎 .

中国专利 :CN109844910A ,2019-06-04

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