改善吹风洁净度的光刻机系统

被引：0

专利类型：

实用新型

申请号：

CN201120471313.7

申请日：

2011-11-23

公开(公告)号：

CN202404352U

公开(公告)日：

2012-08-29

发明(设计)人：

刘庆锋王诚

申请人：

申请人地址：

200233 上海市徐汇区虹漕路385号

IPC主分类号：

G03F720

IPC分类号：

代理机构：

上海专利商标事务所有限公司 31100

代理人：

陈亮

法律状态：

授权

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2012-08-29	授权	授权
2021-12-10	专利权的终止	专利权有效期届满 IPC(主分类):G03F 7/20 申请日:20111123 授权公告日:20120829

共 50 条

[1]

改善吹风洁净度的光刻机系统 [P].

张俊杰 .

中国专利 :CN213780632U ,2021-07-23

[2]

改善吹风洁净度的光刻机系统 [P].

张俊杰 .

中国专利 :CN112255890A ,2021-01-22

[3]

改善吹风洁净度的光刻机系统 [P].

张俊杰 .

中国专利 :CN112255890B ,2024-05-31

[4]

改善光照均匀性的光刻机 [P].

王诚 ;

刘庆锋 .

中国专利 :CN202133859U ,2012-02-01

[5]

适用于EUV光刻机的高洁净度复合分子泵 [P].

田东伟 ;

段金生 .

中国专利 :CN121229420A ,2025-12-30

[6]

一种光刻机的晶圆平台洁净度的表征方法 [P].

韩洋 ;

黄俊 ;

徐晓敏 .

中国专利 :CN113128023A ,2021-07-16

[7]

适用于EUV光刻机的高洁净度分子泵的转子结构 [P].

田东伟 ;

段金生 .

中国专利 :CN223739664U ,2025-12-30

[8]

光刻机及光刻机的压板装置 [P].

胡刚 ;

陈东 ;

项宗齐 .

中国专利 :CN214375824U ,2021-10-08

[9]

改善光刻机对准的方法 [P].

杨要华 .

中国专利 :CN111240162B ,2020-06-05

[10]

光刻机的温度变频调节系统 [P].

黄建 .

中国专利 :CN206039322U ,2017-03-22

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