一种由环氧泽泻烯合成的可降解型光刻胶树脂单体及其合成方法

被引:0
专利类型
发明
申请号
CN202010550853.8
申请日
2020-06-16
公开(公告)号
CN111675616A
公开(公告)日
2020-09-18
发明(设计)人
傅志伟 贺宝元 邵严亮 毛国平 余文清 薛富奎 刘司飞
申请人
申请人地址
221327 江苏省徐州市邳州市经济开发区化工聚集区
IPC主分类号
C07C6954
IPC分类号
C07C6708 C07C2917 C07C3534
代理机构
代理人
法律状态
实质审查的生效
国省代码
引用
下载
收藏
共 50 条
[1]
由α-柏木烯合成的光刻胶树脂单体及其合成方法 [P]. 
郭颖 ;
毕景峰 ;
李嫚嫚 ;
喻珍林 ;
王尹卓 .
中国专利 :CN111056947A ,2020-04-24
[2]
一种由10-O-乙酰异水菖蒲二醇合成的可降解型光刻胶树脂单体及其合成方法 [P]. 
傅志伟 ;
贺宝元 ;
邵严亮 ;
毛国平 ;
余文清 ;
薛富奎 ;
刘司飞 .
中国专利 :CN111689862A ,2020-09-22
[3]
由戊醛糖合成的光刻胶树脂单体及其合成方法 [P]. 
喻珍林 ;
潘惠英 ;
蒋小惠 ;
毕景峰 ;
贺宝元 .
中国专利 :CN111116605A ,2020-05-08
[4]
由呋喃二酮合成的可降解型光刻胶树脂单体及其合成方法 [P]. 
邵严亮 ;
傅志伟 ;
贺宝元 ;
潘新刚 ;
薛富奎 ;
汪进波 .
中国专利 :CN111777579A ,2020-10-16
[5]
一种光刻胶树脂单体及其合成方法 [P]. 
蒋小惠 ;
潘惠英 ;
李嫚嫚 ;
王尹卓 ;
毕景峰 .
中国专利 :CN112625022A ,2021-04-09
[6]
由氧杂螺[4.5]癸烷二酮合成的可降解型光刻胶树脂单体及其合成方法 [P]. 
傅志伟 ;
贺宝元 ;
邵严亮 ;
毛国平 ;
余文清 ;
薛富奎 ;
刘司飞 .
中国专利 :CN111777587A ,2020-10-16
[7]
由甲基六氢化萘二酮合成的可降解型光刻胶树脂单体及其合成方法 [P]. 
潘新刚 ;
傅志伟 ;
贺宝元 ;
邵严亮 ;
毛国平 .
中国专利 :CN111763147A ,2020-10-13
[8]
由吡喃-3,5-二酮合成的可降解型光刻胶树脂单体及其合成方法 [P]. 
傅志伟 ;
贺宝元 ;
邵严亮 ;
毛国平 ;
余文清 ;
薛富奎 ;
刘司飞 .
中国专利 :CN111777583A ,2020-10-16
[9]
由三甲基二环[2.2.2]辛烷二酮合成的可降解型光刻胶树脂单体及其合成方法 [P]. 
潘新刚 ;
傅志伟 ;
贺宝元 ;
邵严亮 ;
毛国平 .
中国专利 :CN112390718A ,2021-02-23
[10]
一种光刻胶树脂单体及其合成方法 [P]. 
喻珍林 ;
蒋小惠 ;
李嫚嫚 ;
郭颖 .
中国专利 :CN111138281A ,2020-05-12