半导体装置及其制造方法及制造装置

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专利类型
发明
申请号
CN201210017248.X
申请日
2012-01-19
公开(公告)号
CN102610566B
公开(公告)日
2012-07-25
发明(设计)人
黑泽哲也 田久真也 友野章
申请人
申请人地址
日本东京都
IPC主分类号
H01L2178
IPC分类号
代理机构
北京市中咨律师事务所 11247
代理人
刘瑞东;陈海红
法律状态
专利申请权、专利权的转移
国省代码
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共 50 条
[1]
半导体装置的制造方法及半导体制造装置 [P]. 
中岛一敬 ;
野尻祐二 ;
野口贵也 .
日本专利 :CN119069387A ,2024-12-03
[2]
半导体制造装置及半导体装置的制造方法 [P]. 
柚木幸平 ;
野岛和弘 ;
丹羽惠一 ;
大野天颂 .
日本专利 :CN119601498A ,2025-03-11
[3]
半导体装置及其制造方法 [P]. 
本田一尊 ;
佐藤慎 ;
上野惠子 ;
小关裕太 .
中国专利 :CN110582840A ,2019-12-17
[4]
半导体装置及其制造方法 [P]. 
松原宽明 ;
近井智哉 ;
石堂仁则 ;
中村卓 ;
本多广一 ;
出町浩 ;
熊谷欣一 ;
作元祥太朗 ;
渡边真司 ;
细山田澄和 ;
中村慎吾 ;
宫腰武 ;
岩崎俊宽 ;
玉川道昭 .
中国专利 :CN110517964A ,2019-11-29
[5]
半导体装置及其制造方法 [P]. 
松原宽明 ;
近井智哉 ;
石堂仁则 ;
中村卓 ;
本多广一 ;
出町浩 ;
熊谷欣一 ;
作元祥太朗 ;
渡边真司 ;
细山田澄和 ;
中村慎吾 ;
宫腰武 ;
岩崎俊宽 ;
玉川道昭 .
日本专利 :CN110517964B ,2024-04-30
[6]
半导体装置的制造方法及制造装置 [P]. 
种泰雄 ;
片村幸雄 ;
芳村淳 ;
岩见文宏 .
中国专利 :CN102543775A ,2012-07-04
[7]
半导体制造装置及制造方法 [P]. 
甲斐稔 .
中国专利 :CN107424942B ,2017-12-01
[8]
半导体装置制造方法 [P]. 
辻直子 .
中国专利 :CN112913016A ,2021-06-04
[9]
半导体装置制造方法 [P]. 
辻直子 .
日本专利 :CN112913016B ,2024-02-13
[10]
半导体装置的制造方法以及半导体制造装置 [P]. 
田中阳子 .
中国专利 :CN103871863A ,2014-06-18