真空室、用于制造真空室的方法和用于重制真空室的方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201910074539.4

申请日：

2019-01-25

公开(公告)号：

CN110094396A

公开(公告)日：

2019-08-06

发明(设计)人：

安德烈亚斯·穆勒迈克尔·韦斯特里希埃里克·安索奇

申请人：

申请人地址：

德国霍亨斯泰因-埃尔恩斯塔尔

IPC主分类号：

F16B1100

IPC分类号：

代理机构：

北京东方亿思知识产权代理有限责任公司 11258

代理人：

柳春雷

法律状态：

公开

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2019-08-06	公开	公开
2021-02-09	实质审查的生效	实质审查的生效 IPC(主分类):F16B 11/00 申请日:20190125

共 50 条

[1]

真空室、用于运行真空室的方法和用于运行真空处理设备的方法 [P].

罗尼·博切尔 ;

克里斯托夫·豪斯勒 .

中国专利 :CN105603381A ,2016-05-25

[2]

可扩展的真空室和用于制造可扩展的真空室的方法 [P].

克里斯托夫·迪纳 .

中国专利 :CN113993621A ,2022-01-28

[3]

真空室和真空室的一部分 [P].

安德烈亚斯·穆勒 ;

迈克尔·韦斯特里希 ;

埃里克·安索奇 .

中国专利 :CN210423307U ,2020-04-28

[4]

用于真空处理装置的真空室 [P].

浜田安雄 ;

咲本泰 .

中国专利 :CN101359579A ,2009-02-04

[5]

用于真空处理装置的真空室 [P].

浜田安雄 ;

咲本泰 .

中国专利 :CN1574232A ,2005-02-02

[6]

用于真空处理装置的真空室 [P].

浜田安雄 ;

咲本泰 .

中国专利 :CN101419902A ,2009-04-29

[7]

真空室支撑构件和真空室支撑构件的焊接方法 [P].

杨静岳 ;

黄雄一 ;

万明坤 ;

余四葵 ;

齐敏中 ;

王世强 ;

龚雪峰 ;

马晓禄 .

中国专利 :CN120587638A ,2025-09-05

[8]

真空室模块和包括真空室模块的装置 [P].

A·科贝特 ;

R·霍尔勒 .

中国专利 :CN216950907U ,2022-07-12

[9]

用于平基片的真空室 [P].

T·格贝勒 ;

G·雷德林 .

中国专利 :CN1229513C ,2000-12-06

[10]

李琼 ;

时振堂 ;

钱志红 ;

李君 ;

孙进 ;

杜红勇 .

中国专利 :CN208368423U ,2019-01-11

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