用于真空处理装置的真空室

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN200710139929.2

申请日：

2004-05-08

公开(公告)号：

CN101359579A

公开(公告)日：

2009-02-04

发明(设计)人：

浜田安雄咲本泰

申请人：

申请人地址：

日本神奈川

IPC主分类号：

H01L2100

IPC分类号：

H01L21203 H01L21283 H01L2167 H01L21677 C23C1422 C23C1434 B01J300

代理机构：

中国国际贸易促进委员会专利商标事务所

代理人：

何腾云

法律状态：

实质审查的生效

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2009-04-01	实质审查的生效	实质审查的生效
2010-06-23	授权	授权
2009-02-04	公开	公开

共 50 条

[1]

用于真空处理装置的真空室 [P].

浜田安雄 ;

咲本泰 .

中国专利 :CN101419902A ,2009-04-29

[2]

用于真空处理装置的真空室 [P].

浜田安雄 ;

咲本泰 .

中国专利 :CN1574232A ,2005-02-02

[3]

真空腔室和真空处理装置 [P].

冈部星儿 .

中国专利 :CN1925111A ,2007-03-07

[4]

真空处理装置 [P].

藤井佳词 .

中国专利 :CN113227445A ,2021-08-06

[5]

真空处理装置 [P].

R.巴兹伦 .

中国专利 :CN102985591A ,2013-03-20

[6]

真空处理装置 [P].

藤井佳词 .

中国专利 :CN111386599A ,2020-07-07

[7]

真空处理装置 [P].

阪上弘敏 ;

北沢僚也 ;

矶部辰德 .

日本专利 :CN116745458B ,2025-10-03

[8]

真空处理装置 [P].

铃木康司 ;

长岛英人 ;

藤井佳词 .

中国专利 :CN113056572A ,2021-06-29

[9]

真空处理装置 [P].

曺生贤 ;

金娧永 .

中国专利 :CN102034678B ,2011-04-27

[10]

真空处理装置 [P].

田代征仁 ;

杉山成 .

中国专利 :CN113994021A ,2022-01-28

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