真空腔室和真空处理装置

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN200610128922.6

申请日：

2006-09-04

公开(公告)号：

CN1925111A

公开(公告)日：

2007-03-07

发明(设计)人：

冈部星儿

申请人：

申请人地址：

日本东京

IPC主分类号：

H01L2100

IPC分类号：

H01L2167

代理机构：

北京纪凯知识产权代理有限公司

代理人：

龙淳

法律状态：

实质审查的生效

国省代码：

引用

下载

收藏

法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2007-05-02	实质审查的生效	实质审查的生效
2008-09-24	授权	授权
2007-03-07	公开	公开

共 50 条

[1]

真空处理装置和真空处理方法 [P].

吉田雄祐 ;

中元茂 ;

福地功祐 ;

朝仓凉次 .

日本专利 :CN113851391B ,2025-08-22

[2]

真空处理装置和真空处理方法 [P].

吉田雄祐 ;

中元茂 ;

福地功祐 ;

朝仓凉次 .

中国专利 :CN113851391A ,2021-12-28

[3]

真空处理装置和真空处理方法 [P].

福田义朗 ;

佐佐木俊介 ;

木本孝仁 ;

杉村道成 .

日本专利 :CN117626213A ,2024-03-01

[4]

真空处理装置和真空处理方法 [P].

木本孝仁 ;

藤井琢也 ;

坂本纯一 ;

佐藤昌敏 .

日本专利 :CN120330662A ,2025-07-18

[5]

真空处理装置和真空处理方法 [P].

近藤昌树 ;

林辉幸 ;

齐藤美佐子 .

中国专利 :CN101310041A ,2008-11-19

[6]

真空处理装置和真空处理方法 [P].

佐佐木俊介 ;

木本孝仁 ;

福田义朗 ;

前平谦 .

日本专利 :CN117587377A ,2024-02-23

[7]

真空处理装置和真空处理方法 [P].

榎本忠 ;

高桥喜一 ;

田中恵一 .

中国专利 :CN104795344A ,2015-07-22

[8]

真空处理装置、真空处理方法和存储介质 [P].

古川真司 ;

五味淳 ;

宫下哲也 ;

北田亨 ;

中村贯人 .

中国专利 :CN104350174B ,2015-02-11

[9]

真空处理装置、真空处理系统和真空处理方法 [P].

山岸孝幸 ;

小林民宏 .

中国专利 :CN110610873B ,2019-12-24

[10]

真空处理方法及真空处理装置 [P].

津田英司 .

中国专利 :CN105483639B ,2016-04-13

← 1 2 3 4 5 →