真空处理装置、真空处理方法和存储介质

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201380028671.2

申请日：

2013-04-30

公开(公告)号：

CN104350174B

公开(公告)日：

2015-02-11

发明(设计)人：

古川真司五味淳宫下哲也北田亨中村贯人

申请人：

申请人地址：

日本东京都

IPC主分类号：

C23C1458

IPC分类号：

C23C1402 C23C1408 H01L218246 H01L27105 H01L4312

代理机构：

北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277

代理人：

刘新宇;张会华

法律状态：

公开

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2015-02-11	公开	公开
2015-03-11	实质审查的生效	实质审查的生效号牌文件类型代码:1604 号牌文件序号:101601521271 IPC(主分类):C23C 14/58 专利申请号:2013800286712 申请日:20130430
2016-05-18	授权	授权

共 50 条

[1]

真空处理装置和真空处理方法和存储介质 [P].

早川升 ;

出口新悟 .

中国专利 :CN101339897A ,2009-01-07

[2]

真空处理装置和真空处理方法以及存储介质 [P].

松井久 ;

三浦知久 ;

笠原稔大 ;

大泽秀和 ;

赤池宗明 .

中国专利 :CN107546097B ,2018-01-05

[3]

真空处理装置、真空处理方法以及存储介质 [P].

近藤圭祐 .

中国专利 :CN101241840A ,2008-08-13

[4]

真空处理装置和真空处理方法 [P].

木本孝仁 ;

藤井琢也 ;

坂本纯一 ;

佐藤昌敏 .

日本专利 :CN120330662A ,2025-07-18

[5]

真空处理装置和真空处理方法 [P].

吉田雄祐 ;

中元茂 ;

福地功祐 ;

朝仓凉次 .

日本专利 :CN113851391B ,2025-08-22

[6]

真空处理装置和真空处理方法 [P].

吉田雄祐 ;

中元茂 ;

福地功祐 ;

朝仓凉次 .

中国专利 :CN113851391A ,2021-12-28

[7]

真空处理装置、真空处理装置的运行方法和存储介质 [P].

山口博史 .

中国专利 :CN101652851A ,2010-02-17

[8]

真空处理装置和真空处理方法 [P].

福田义朗 ;

佐佐木俊介 ;

木本孝仁 ;

杉村道成 .

日本专利 :CN117626213A ,2024-03-01

[9]

真空处理装置和真空处理方法 [P].

近藤昌树 ;

林辉幸 ;

齐藤美佐子 .

中国专利 :CN101310041A ,2008-11-19

[10]

真空处理装置和真空处理方法 [P].

佐佐木俊介 ;

木本孝仁 ;

福田义朗 ;

前平谦 .

日本专利 :CN117587377A ,2024-02-23

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