真空处理装置和真空处理方法以及存储介质

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201710499341.1

申请日：

2017-06-27

公开(公告)号：

CN107546097B

公开(公告)日：

2018-01-05

发明(设计)人：

松井久三浦知久笠原稔大大泽秀和赤池宗明

申请人：

申请人地址：

日本东京都

IPC主分类号：

H01J3732

IPC分类号：

代理机构：

北京尚诚知识产权代理有限公司 11322

代理人：

龙淳;徐飞跃

法律状态：

授权

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2019-08-06	授权	授权
2018-01-05	公开	公开
2018-01-30	实质审查的生效	实质审查的生效 IPC(主分类):H01J 37/32 申请日:20170627

共 50 条

[1]

真空处理装置和真空处理方法和存储介质 [P].

早川升 ;

出口新悟 .

中国专利 :CN101339897A ,2009-01-07

[2]

真空处理装置、真空处理方法以及存储介质 [P].

近藤圭祐 .

中国专利 :CN101241840A ,2008-08-13

[3]

真空处理装置、真空处理方法和存储介质 [P].

古川真司 ;

五味淳 ;

宫下哲也 ;

北田亨 ;

中村贯人 .

中国专利 :CN104350174B ,2015-02-11

[4]

真空处理装置、真空处理装置的运行方法和存储介质 [P].

山口博史 .

中国专利 :CN101652851A ,2010-02-17

[5]

真空处理装置和真空处理方法 [P].

近藤昌树 ;

林辉幸 ;

齐藤美佐子 .

中国专利 :CN101310041A ,2008-11-19

[6]

真空处理装置、真空处理系统和真空处理方法 [P].

山岸孝幸 ;

小林民宏 .

中国专利 :CN110610873B ,2019-12-24

[7]

真空处理方法以及真空处理装置 [P].

宫原弘臣 ;

西宫立享 .

中国专利 :CN101548365B ,2009-09-30

[8]

真空处理装置以及真空处理方法 [P].

前平谦 ;

铃木大地 ;

真濑江理子 ;

不破耕 .

中国专利 :CN103733318A ,2014-04-16

[9]

真空处理装置以及真空处理方法 [P].

仲田辉男 ;

野木庆太 ;

井上智己 ;

川口道则 .

中国专利 :CN102800615A ,2012-11-28

[10]

真空处理装置以及真空处理方法 [P].

笠原稔大 .

中国专利 :CN101136314A ,2008-03-05

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