真空处理装置以及真空处理方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201280040387.2

申请日：

2012-08-08

公开(公告)号：

CN103733318A

公开(公告)日：

2014-04-16

发明(设计)人：

前平谦铃木大地真濑江理子不破耕

申请人：

申请人地址：

日本神奈川县

IPC主分类号：

H01L213065

IPC分类号：

代理机构：

中国专利代理(香港)有限公司 72001

代理人：

崔幼平;李婷

法律状态：

授权

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2016-08-31	授权	授权
2014-04-16	公开	公开
2014-05-14	实质审查的生效	实质审查的生效号牌文件类型代码:1604 号牌文件序号:101582225476 IPC(主分类):H01L 21/3065 专利申请号:2012800403872 申请日:20120808

共 50 条

[1]

真空处理装置、真空处理方法 [P].

饭岛荣一 ;

池田裕人 ;

箱守宗人 .

中国专利 :CN102112646A ,2011-06-29

[2]

真空处理方法以及真空处理装置 [P].

宫原弘臣 ;

西宫立享 .

中国专利 :CN101548365B ,2009-09-30

[3]

真空处理装置以及真空处理方法 [P].

仲田辉男 ;

野木庆太 ;

井上智己 ;

川口道则 .

中国专利 :CN102800615A ,2012-11-28

[4]

真空处理装置以及真空处理方法 [P].

笠原稔大 .

中国专利 :CN101136314A ,2008-03-05

[5]

真空处理装置及真空处理方法 [P].

佐竹彻 .

中国专利 :CN103392027A ,2013-11-13

[6]

真空排气装置、真空处理装置以及真空处理方法 [P].

小室拓 ;

增田行男 ;

降矢新治 ;

斋藤一也 ;

大园修司 ;

浅利伸 .

中国专利 :CN102171455B ,2011-08-31

[7]

真空处理装置、真空处理方法以及存储介质 [P].

近藤圭祐 .

中国专利 :CN101241840A ,2008-08-13

[8]

真空处理装置、真空处理系统和真空处理方法 [P].

山岸孝幸 ;

小林民宏 .

中国专利 :CN110610873B ,2019-12-24

[9]

真空处理装置和真空处理方法 [P].

福田义朗 ;

佐佐木俊介 ;

木本孝仁 ;

杉村道成 .

日本专利 :CN117626213A ,2024-03-01

[10]

真空处理装置和真空处理方法 [P].

木本孝仁 ;

藤井琢也 ;

坂本纯一 ;

佐藤昌敏 .

日本专利 :CN120330662A ,2025-07-18

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