真空处理方法以及真空处理装置

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN200880000850.4

申请日：

2008-01-30

公开(公告)号：

CN101548365B

公开(公告)日：

2009-09-30

发明(设计)人：

宫原弘臣西宫立享

申请人：

申请人地址：

日本东京

IPC主分类号：

H01L21205

IPC分类号：

H01L3104

代理机构：

中科专利商标代理有限责任公司 11021

代理人：

李贵亮

法律状态：

实质审查的生效

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2009-11-25	实质审查的生效	实质审查的生效
2017-03-22	专利权的终止	未缴年费专利权终止号牌文件类型代码:1605 号牌文件序号:101708964712 IPC(主分类):H01L 21/205 专利号:ZL2008800008504 申请日:20080130 授权公告日:20110126 终止日期:20160130
2011-01-26	授权	授权
2009-09-30	公开	公开

共 50 条

[1]

真空处理装置以及真空处理方法 [P].

前平谦 ;

铃木大地 ;

真濑江理子 ;

不破耕 .

中国专利 :CN103733318A ,2014-04-16

[2]

真空处理装置以及真空处理方法 [P].

仲田辉男 ;

野木庆太 ;

井上智己 ;

川口道则 .

中国专利 :CN102800615A ,2012-11-28

[3]

真空处理装置以及真空处理方法 [P].

笠原稔大 .

中国专利 :CN101136314A ,2008-03-05

[4]

真空处理装置、真空处理方法 [P].

饭岛荣一 ;

池田裕人 ;

箱守宗人 .

中国专利 :CN102112646A ,2011-06-29

[5]

真空处理装置、真空处理方法以及存储介质 [P].

近藤圭祐 .

中国专利 :CN101241840A ,2008-08-13

[6]

真空处理装置、真空处理系统和真空处理方法 [P].

山岸孝幸 ;

小林民宏 .

中国专利 :CN110610873B ,2019-12-24

[7]

真空处理装置及真空处理方法 [P].

佐竹彻 .

中国专利 :CN103392027A ,2013-11-13

[8]

真空处理装置和真空处理方法 [P].

福田义朗 ;

佐佐木俊介 ;

木本孝仁 ;

杉村道成 .

日本专利 :CN117626213A ,2024-03-01

[9]

真空处理装置和真空处理方法 [P].

木本孝仁 ;

藤井琢也 ;

坂本纯一 ;

佐藤昌敏 .

日本专利 :CN120330662A ,2025-07-18

[10]

真空处理装置和真空处理方法 [P].

近藤昌树 ;

林辉幸 ;

齐藤美佐子 .

中国专利 :CN101310041A ,2008-11-19

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